UNECS系列的特点

高速光谱椭偏仪UNECS的特点

高速光谱椭偏仪UNECS系列

爱发科的高速光谱椭偏仪（UNECS系列）可高速，高精度地测量薄膜的厚度和折射率。采用独特的测量方法以实现高速测量和紧凑性。除了独特的便携式类型外，我们还根据应用提供广泛的产品阵容，从独特的便携式类型到支持真空环境的自动Stage类型和内置类型。

■高速测量
通过不含旋转机构的独特测量方法实现了最大速度为20ms的高速测量。
可以在短时间内测量重复测量和多点分布测量。

■可见光对应
除了标准类型（530nm-750nm）外，还添加了可见光谱类型（380nm-760nm）以支持更大范围的波长。

■紧凑型传感器单元
投受光传感器仅由不含旋转机构的光学元件组成，极其轻巧且紧凑，并且不需要定期维护。

■ 丰富的产品阵容
支持多种应用，包括独特的便携式类型，手动/自动Stage类型，大型基板类型以及支持大气/真空环境的内置类型。

类型：手动Stage
型号 （Stage型）	波长范围（nm）		Spot直径（mm）		Z轴焦点调整		追加功能
	530-750	380-760	1	0.3	手动	自动	高精度 Map 2000点	3D显示
UNECS-1500M (手動Φ150mm)	○	-	○	-	○	-	-	-
UNECS-1500M-030 (手動Φ150mm)	○	-	-	○	○	-	-	-
UNECS-1500MW (手動Φ150mm)	-	○	○	-	○	-	-	-
UNECS-1500MW-030 (手動Φ150mm)	-	○	-	○	○	-	-	-

类型：自动Stage
型号 (Stage型)	波长范围（nm）		Spot直径（mm）		Z轴焦点调整		追加功能
	530-750	380-760	1	0.3	手动	自动	高精度 Map 2000点	3D显示
UNECS-1500A (自动 Φ150m)	○	-	○	-	-	○	△	△
UNECS-1500A-030 (自动 Φ150mm)	○	-	-	○	-	○	△	△
UNECS-1500AW (自动 Φ150mm)	-	○	○	-	-	○	△	△
UNECS-1500AW-030 (自动 Φ150mm)	-	○	-	○	-	○	△	△
UNECS-2000A (自动 Φ200mm)	○	-	○	-	-	○	△	△
UNECS-2000A-030 (自动 Φ200mm)	○	-	-	○	-	○	△	△
UNECS-2000AW (自动 Φ200mm)	-	○	○	-	-	○	△	△
UNECS-2000AW-030 (自动 Φ200mm)	-	○	-	○	-	○	△	△
UNECS-3000A (自动 Φ300mm)	○	-	○	-	-	○	○	△
UNECS-3000A-030 (自动 Φ300mm)	○	-	-	○	-	○	○	△
UNECS-3000AW (自动 Φ300mm)	-	○	○	-	-	○	○	△
UNECS-3000AW-030 (自动 Φ300mm)	-	○	-	○	-	○	○	△

类型：内置
型号	用途		波长范围（nm）		Spot径（mm）
	大气	真空	530-750	380-760	1	0.3
UNECS-1M	○	-	○	-	○	-
UNECS-1M-030	○	-	○	-	-	○
UNECS-1MW	○	-	-	○	○	-
UNECS-1MW-030	○	-	-	○	-	○
UNECS-1MV	-	○	○	-	○	-
UNECS-1MVW	-	○	-	○	○	-

• 便携式
  测量单元仅重2.2kg，便于携带。
  
  

• 高速测量
  最快20ms的高速测量，实现快速测量和分析。
  
  

• 波长选择
  可从标准类型530〜750nm和可见光谱类型380〜760nm中选择。
  
  

• Spot直径选择
  可以从Φ1mm和Φ0.3mm中选择。

• 手动Stage
  Φ150mmR-θStage具有出色的可操作性，易于进行测量定位。

• 高速测量
  最快20ms的高速测量，实现快速测量和分析。

• 波长选择
  可从标准类型530〜750nm和可见光谱类型380〜760nm中选择。

• Spot直径选择
  可以从Φ1mm和Φ0.3mm中选择

■测量分析

结构简单，便于测量和分析
即时分析并显示测量和拟合结果

• 自动Stage/自动对焦
  自动Stage和自动聚焦功能可快速自动测量基材表面上的薄膜厚度分布，并将结果显示在有色Map中。

• 高速测量
  最快20ms的高速测量，实现快速测量和分析。

• 波长选择
  可从标准类型530〜750nm和可见光谱类型380〜760nm中选择。

• Spot直径选择
  可以从Φ1mm和Φ0.3mm中选择。

■测量分析

配备R-θ型自动Stage，自动Map测量
设置好基板，按下开始按钮后，自动聚焦（自动高度调节）→指定的坐标测量→拟合分析→直到基板卸下前都自动检测

简单易用的软件使任何人都可以执行高精度的分布测量。

• 可以通过两种方式输入测量坐标：R-Θ（半径和角度）和X，Y（前后，左右）。 （最高200point）
• 测量结果实时显示。
• 实时显示测量结果（在ψpsi和Δdelta波长范围内的分布图）。 可以稍后再进行分析。

• 高速测量
  最快20ms的高速测量，实现快速测量和分析。
  
  

• 波长选择
  可从标准类型530〜750nm和可见光谱类型380〜760nm中选择。
  
  

• Spot直径选择
  可以从Φ1mm和Φ0.3mm中选择。
  
  

• 真空对应
  除了正常的大气类型外，还可以提供对应真空环境的真空类型。

测量再现性

高速测量和出色的测量重现性

即使测量速度很快，数据的可靠性也不会降低。 与许多（其他公司）同等产品相比，可获得非常稳定的重现性。

■自动Mapping测量

通过高速Mapping测量轻松评估膜厚度分布
在X，Y模式或R-θ模式下测量坐标输入可以轻松指定F

材料表

由于包含了薄膜和基板的光学常数的材料表是公开的，因此用户可以自由添加或编辑。
通过建立接近于实际膜质的数据，从而可以进行更可靠的分析。

• 用户可以自由地编辑和添加包含了每种材料的光学常数（折射率和消光系数）的材料表。
• 主要材料的文献预先存储在库中。在评估其他材料或未知材料时，或者无法使用文献数据进行分析时，可以轻松地根据测量数据编辑文件内容或添加新文件。
  这样就能进行高度可靠的分析。
• 许多材料数据文件都是私有的（用户无法编辑），需要每次都要求制造商进行编辑和分析，基本上要收取大量费用，及花费时间。
  因此，解决了研发未知材料工作的不便之处。