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EB电源

HPS 系列

HPS-510S

ULVAC

ULVAC多年的技术积累和实际成果、具备稳定的回路和高性能的EB電源。
配合EB枪控制器EGC-10GS使用、能对应光学薄膜和金属薄膜用EB枪。

特点

  • 不需要冷却水
    强制空冷系统,不需要冷却水
  • 可靠性高
    作为设备制造商经验积累的成果
  • 简易的操作性
    操作面板使用液晶触摸屏,操作性得到提升。
  • 扫描波形变化
    可以在操作屏幕上创建各种光束扫描形式
  • 高速电弧中断功能
    通过高速电弧中断最大限度地减少成膜率
  • 低水平电弧控制功能(光学应用可选)
    控制光学应用中所产生的微小电弧以实现稳定的成膜

用途

  • 金属膜用真空沉积

规格

Model HPS-510S HPS-1600F
-S100
HPS-1600F
-S200
HPS-1600F
-S101
Input specification Input voltage Three phase, AC190~231V
Input capacity 7kVA 21kVA 22kVA 21kVA
Output specification Rated output power 5kW 16kW
Voltage -4k~-10kV
Ripple rate 2%p-p or less (at rated power)
Beam current 0~500mA 0~1600mA
Cooling method Forced air-cooling
Dimensions
W×D×H
Power Supply 480×620×300mm 500×700×710mm
Gun Controller 480×480×149mm
Weight Power Supply 50kg 113kg 136kg 113kg
Gun Controller 20kg 17kg

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