适用于光学薄膜生产的高通用性电子枪，拥有丰富的应用实例
电子枪
用于光学的EB光源_EGO系列
Model: EGO
ULVAC
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关于Model: EGO的介绍、购买、商讨
这款高度可靠的 EB 喷枪基于 ULVAC 多年的技术，专为光学领域而开发。
特点
- 由于电子束被电磁场偏转，因此二次电子对沉积体的影响极小。
- 即使是可升华的材料，也可以通过扫描 X 轴和 Y 轴上的光束点来顺利蒸发，从而消除挖洞现象。 （日本国专利 831485 号 843447）
- 电子束是 270° 偏转的，因此不会暴露在蒸发材料的蒸气中，灯丝的使用寿命长。
- 发射器组件易于安装和拆卸，便于更换灯丝、绝缘体等。
规格
| Model | EGO-1G | EGO-40M | |
| 电子束偏转角 | 270° | ||
| 坩埚数量 | 0 | 4 | |
| 坩埚容量 | - | 10cc ×2 / 40cc ×2 | |
| 坩埚尺寸： 顶部 × 底部× 深度 | - | 32Φ×24Φ×15H（mm）/50Φ×41Φ×25H（mm） | |
| 冷却水量 | 炉边 | - | 10L/min以上 |
| 其他 | 2L/min | 2L/min | |
| 尺寸（W×D×H） 不包含突起 | 166×285×174（mm） | 170×309×174（mm） | |
| 质量 | 约12.5公斤 | 约18公斤 | |
| 沉积速率 | - | - | |
| 最大加速电压 | -10kV | ||
| 最大发射电流 | 1.0A | 0.6A/1.0A | |
| 适用电源 | HPS-1000N-100/HPS-1000N-200 | ||
