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金属膜用EB枪
EGL 系列
EGL-35M
アルバック
EGL-35M型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果，为提高性能和可靠性而开发。
EGL-35M有2种坩埚容量40cc（最大输入功率：10kW）和10cc（最大输入功率：6kW）（在标准规格的情况下），能够进行任意多层膜成膜。
EGL-35M有2种坩埚容量40cc（最大输入功率：10kW）和10cc（最大输入功率：6kW）（在标准规格的情况下），能够进行任意多层膜成膜。
特点
- 采用容量40cc和10cc的4点切换坩埚可实现多层成膜。
- 由于电子束被电磁场偏转，二次电子对成膜体的影响非常小。
- 即使是升华材料，扫描X轴和Y轴上的束斑也可以消除点蚀现象并可以顺利蒸发。
- 电子束270°偏转，灯丝不会从蒸发材料暴露，因此寿命很长。
- 发射器组件易于拆开，更换灯丝，绝缘体等非常容易。
- 坩埚位置检测机构可以作为选项安装，坩埚旋转可以自动化。
规格
| 加速电压 | -4kV～-10kV DC | |
| 发射电流（MAX） | 1.0A MAX (at-10kV) | |
| 最大输入功率 | 10kW (at 40cc坩埚)、6kW (at 10cc坩埚) | |
| X轴偏转线圈 | -0.4A～-3.5A MAX -18V DC 约2.6Ω（at 20℃） |
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| Y轴偏转线圈 | 0A～±1.2A MAX ±12V DC 约5.8Ω（at 20℃） |
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| 灯丝 | 0V～12V AC MAX 40A | |
| 坩埚 | 数 | 4 |
| 容量 | 40cc ×2、10cc×2 （标准规格时） | |
| 尺寸 | 50Φ×41Φ×25H、32Φ×24Φ×15H | |
| 电子束偏转角度 | 270° | |
| 有效蒸发角度 | 90°以上 | |
| 蒸发速度 | 1.6μm/min以上（A| 8kW、坩埚垂直上方250H） | |
| 冷却水量 | 坩埚 | 10L/min or more 0.7Mpa (max) |
| 线圈 | 2L/min or more 0.7Mpa (max) | |
| 水温 | 15℃～25℃ | |
| 炉膛位置显示机制 | 接点数：NO 接点 4式 | |
| （可选） | 容量：MAX 1A、50V DC | |
| 外形尺寸 | 170W×240D×156H 凸起部分除外 | |
| 重量 | 约18kg | |
| 适用电源 | HPS-510S, HPS-1000N, HPS-1600F | |
