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金属膜用EB枪

EGL 系列

EGL-35M

ULVAC

EGL-35M型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果，为提高性能和可靠性而开发。
EGL-35M有2种坩埚容量40cc（最大输入功率：10kW）和10cc（最大输入功率：6kW）（在标准规格的情况下），能够进行任意多层膜成膜。

特点

采用容量40cc和10cc的4点切换坩埚可实现多层成膜。
由于电子束被电磁场偏转，二次电子对成膜体的影响非常小。
即使是升华材料，扫描X轴和Y轴上的束斑也可以消除点蚀现象并可以顺利蒸发。
电子束270°偏转，灯丝不会从蒸发材料暴露，因此寿命很长。
发射器组件易于拆开，更换灯丝，绝缘体等非常容易。
坩埚位置检测机构可以作为选项安装，坩埚旋转可以自动化。

规格

加速电压		-4kV～-10kV DC
发射电流（MAX）		1.0A MAX (at-10kV)
最大输入功率		10kW (at 40cc坩埚)、6kW (at 10cc坩埚)
X轴偏转线圈		-0.4A～-3.5A MAX -18V DC 约2.6Ω（at 20℃）
Y轴偏转线圈		0A～±1.2A MAX ±12V DC 约5.8Ω（at 20℃）
灯丝		0V～12V AC MAX 40A
坩埚	数	4
	容量	40cc ×2、10cc×2 （标准规格时）
	尺寸	50Φ×41Φ×25H、32Φ×24Φ×15H
电子束偏转角度		270°
有效蒸发角度		90°以上
蒸发速度		1.6μm/min以上（A\| 8kW、坩埚垂直上方250H）
冷却水量	坩埚	10L/min or more 0.7Mpa (max)
	线圈	2L/min or more 0.7Mpa (max)
水温		15℃～25℃
炉膛位置显示机制		接点数：NO 接点 4式
（可选）		容量：MAX 1A、50V DC
外形尺寸		170W×240D×156H 凸起部分除外
重量		约18kg
适用电源		HPS-510S, HPS-1000N, HPS-1600F

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可选部件・消耗品

EB枪・EB电源

高电压导入端子 BERH311A 电流导入端子 PTS-004 接地端子 ERZ-003 大气压确认器 DTA-002 水冷导入端子 DK5203-045

金属膜用EB枪

EGL 系列

EGL-35M

EGL-35M型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果，为提高性能和可靠性而开发。
EGL-35M有2种坩埚容量40cc（最大输入功率：10kW）和10cc（最大输入功率：6kW）（在标准规格的情况下），能够进行任意多层膜成膜。

特点

采用容量40cc和10cc的4点切换坩埚可实现多层成膜。
由于电子束被电磁场偏转，二次电子对成膜体的影响非常小。
即使是升华材料，扫描X轴和Y轴上的束斑也可以消除点蚀现象并可以顺利蒸发。
电子束270°偏转，灯丝不会从蒸发材料暴露，因此寿命很长。
发射器组件易于拆开，更换灯丝，绝缘体等非常容易。
坩埚位置检测机构可以作为选项安装，坩埚旋转可以自动化。

规格

加速电压		-4kV～-10kV DC
发射电流（MAX）		1.0A MAX (at-10kV)
最大输入功率		10kW (at 40cc坩埚)、6kW (at 10cc坩埚)
X轴偏转线圈		-0.4A～-3.5A MAX -18V DC 约2.6Ω（at 20℃）
Y轴偏转线圈		0A～±1.2A MAX ±12V DC 约5.8Ω（at 20℃）
灯丝		0V～12V AC MAX 40A
坩埚	数	4
	容量	40cc ×2、10cc×2 （标准规格时）
	尺寸	50Φ×41Φ×25H、32Φ×24Φ×15H
电子束偏转角度		270°
有效蒸发角度		90°以上
蒸发速度		1.6μm/min以上（A\| 8kW、坩埚垂直上方250H）
冷却水量	坩埚	10L/min or more 0.7Mpa (max)
	线圈	2L/min or more 0.7Mpa (max)
水温		15℃～25℃
炉膛位置显示机制		接点数：NO 接点 4式
（可选）		容量：MAX 1A、50V DC
外形尺寸		170W×240D×156H 凸起部分除外
重量		约18kg
适用电源		HPS-510S, HPS-1000N, HPS-1600F