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红外镀金聚焦炉/RTA装置
红外线灯加热设备
RTP-6
アルバック販売
80℃ /s high speed annealing possible at low cost.
最大6英寸的灯管退火设备。
用于个别半导体工艺的硅化物形成和化合物半导体的工艺退火。
用于个别半导体工艺的硅化物形成和化合物半导体的工艺退火。
特点
- Cold Wall结构不会造成重金属污染
用途
- 可以实现Si晶圆的急速热处理
规格
| 型号 | RTP-6 |
|---|---|
| 温度范围 | 室温～1000℃ |
| 样品尺寸 | 4inch～6inch晶圆尺寸 |
| 测量环境 | 气体中、气流中、大气中 |
| 应用 | 涡轮分子泵／回转泵排气组 冷却水循环设备 高温计控制 SiC碳板 |
Heating Chamber
Constitution
- Infrared gold image furnace
- Heat treatment chamber
- Programmable temperature controller
- 9-zone output unit
- Span change unit
- Gas piping system
- Hot air exhaust system
- Frame・Switch board
- Pyrometer (option)
- Cooling water circulation system (option)
- Vacuum exhaust system (option)
System diagram
Utility
| Outside dimensions | Approx. W600 x D1000 x H1700 (mm) (excluding protrusion) |
|---|---|
| Weight | Approx. 300kg |
| Power requirements・grounding | Three phase AC 200V 30kVA, D type |
| Cooling water | City water 15L/min or more, 0.3MPa or more |
| Vacuum exhaust port | KF-25 |
| Gas port | IN: 1/4 Swagelok joint (or equivalent) OUT:3/8 Swagelok joint (or equivalent) |
| Hot air outlet | Approx. Φ50 short tube |
