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红外镀金聚焦炉/RTA装置
桌上型灯加热设备
MILA-5000系列
アルバック販売
本品是温度控制器和气氛可变腔体一体化的小型化低价格红外线灯加热设备。
加热操作可通过USB连接在电脑上进行，可轻松进行数据管理。
特点
- 50℃/s高速加热
- 可以选择真空，气体，气流，大气和任何环境
- 精确的温度控制
- 桌面型和紧凑型设计
用途
- 强电解质薄膜的晶体退火
- 离子注入后的扩散退火，氧化膜形成退火
- Si、化合物晶圆烧结和合金化处理
- 玻璃基板的热退火
- 热循环，热冲击，热疲劳试验
- 升温脱离试验，催化效果试验
规格
MILA-5000系列
| Model | MILA-5000-P-N (high temperature type) |
MILA-5000-P-F (uniform temperature type) |
|---|---|---|
| Temperature Range | RT～1200℃ | RT～800℃ |
| Sample Size | ☐20 × t2 (mm) | |
| Atmosphere | Air, Vacuum, Gas flow | |
*Vacuum pumping system is optional.
*Heating temperature changes according to the heated sample’s infrared reflectance, absorption, heat capacity, and material.
Uniform heating type
| Model | MILA-5000UHV |
|---|---|
| Temperature Range | RT～1200℃ |
| Sample Size | ☐20 × t2 (mm) |
| Atmosphere | Air, Vacuum, Inert gas |
*Vacuum pumping system is optional.
*Heating temperature changes according to the heated sample’s infrared reflectance, absorption, heat capacity, and material.
Option example
High temperature type
MILA5000-P-N Temperature uniformity
Sample : W20×L20×t0.5(㎜) nickel plate
Atmosphere : Vacuum T・C（K）measuring point
MILA5000-P-N Maxium heating rate
Sample : W20×L20×t0.5(㎜) nickel plate
Atmosphere : Vacuum
Rating : 200V 4kW, 100%output
Uniform heating type
MILA5000-P-N Maxium heating rate
Sample : W20×L20×t0.5(㎜) nickel plate
Atmosphere : Vacuum
Rating : 200V 4kW, 100%output
MILA5000-P-N Temperature uniformity
Sample : W20×L20×t0.5(㎜) nickel plate
Atmosphere : Vacuum T・C（K）measuring point
