LIX系列

アルバック販売

最小分辨率2nm的超精密热膨胀测定。
可以测量低热膨胀材料和各种电子部件的精密膨胀。同时，也可以对应薄膜的厚度方向的膨胀测量。

特点

可以测量50至500μm厚的聚合物膜材料的厚度方向

JISR3251-1995标准
平移式样品架（专利）

Model	LIX-2M	LIX-2L
Temperature range	RT ～ 700℃	－150 ～ 200℃
Sample size	Φ5 ～ 6 × L10 ～ 15 (mm) Both sides in the length direction are finished spherically.
Atmosphere	1. Vacuum　2. Low pressure high purity helium gas
Measurement method	Dual path Michelson laser interferometry

规格

Model	LIX-2M	LIX-2L
Temperature range	RT ～ 700℃	－150 ～ 200℃
Sample size	Φ5 ～ 6 × L10 ～ 15 (mm) Both sides in the length direction are finished spherically.
Atmosphere	1. Vacuum　2. Low pressure high purity helium gas
Measurement method	Dual path Michelson laser interferometry