CVD/ALD/刻蚀工艺
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过程气体监测仪 Qulee RGM2 系列是适用于 CVD、刻蚀以及 ALD 工艺的气体分析设备。能够在反应性/腐蚀性气体环境下长时间稳定测量，适用于清洗工艺的端点监控，并在泄漏监测、残留水分以及其他杂质监测方面表现出色。非常适合用于良品率管理和生产效率的提高。
CVD/ALD/刻蚀工艺
RGM2-201F
反应过程气体监视器Qulee RGM2-201F是Qulee系列的对应蚀刻、CVD、ALD装置等反应性气体的带差动排气系统的过程监视器。由于ULVAC独特的离子源和排气系统结构，对反应性气体具有优异的耐腐蚀性，可以长时间稳定测量。
CVD/ALD/刻蚀工艺
RGM2-202
反应性气体分析仪Qulee RGM2-202是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。
CVD/ALD/刻蚀工艺
RGM2-302
反应性气体分析仪Qulee RGM-302是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。