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CVD-ALD-Etching-process

Qulee RGM2 系列

RGM2-202

アルバック

反应性气体分析仪Qulee RGM2-202是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。

特点

可以在反应过程中长时间进行稳定的测量
采用具有磁场的Claude离子源
软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少
紧凑型流量控制阀
处理室到离子源的距离很短，可以快速响应分辨率
可以测量宽范围的压力10^-6 to 13kPa（口径可选）
无需电脑也可以测量
One Click机能（对每个人来说都很容易，不需要复杂的操作）
连接传感器单元时，最大可以进行120℃的高温烘烤
离子源，二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性（专利申请中）
可进行氦气检漏，漏气测试
标准搭载软件（Windows 8/10/11）

用途

CVD/ALD/蚀刻设备
监测工艺中的反应气体
蚀刻和清洁工艺的末端监测
残留气体测量
检漏

规格

型号	RGM2-202	RGM2-302
传感器
质量分离方式	四极型质量分析仪
质量数范围	1～200 amu	1～300 amu
分解能	M/△M=1M (10%P.H.)
检出器	SEM/法拉第杯
感度	1×10^-3 A/Pa
最小检知分圧	1×10^-10 Pa
离子源	带磁铁的闭合离子源
灯丝	V字型 Ir/Y₂O₃ 1个
电力电压	20～70 eV
放射电流	10μA
放大器范围	1×10^-5～1×10^-12 A
可烘烤温度	120℃
差動排气系统
气体导入阀	带孔流量控制阀
最大采样压力	13kPa
差动排气系统	带中间排气，吹扫的涡轮分子泵。
涡轮分子泵	67L/s：N₂
前级泵	DIS090
皮拉尼真空计	SW1-1
电离真空计	GI-M2
质量	排气系：57kg／控制系：38kg
效用
电源电压	AC100V 15A
压缩空气	Dry N₂：0.4～0.7MPa (Φ6一触式配件)
控制器单元
One Click功能	有 / He / H₂O / N₂/ O₂/ Any gas
PC交互	RS-232C / 485
外部入输出	类似物输入2点（0-10V）
	设定点输出2点（异常、警告）
	外部联锁（压力保护）
其他
烘烤加热器	带式加热器
高度调整架	标准
传感器部一控制部链接电线	约5m
接口	Ethernet
软件	Qulee QCS Ver.4.2以降（Windows 8/10/11）适用
选项	PC

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可选部件・消耗品

RGM2-201F专用选项

VCR转换管道	VCR-NW16	NW夹子，居中
VCR转换管道	VCR-NW25	NW夹子，居中
VCR转换管道	VCR-NW40	NW夹子，居中

RGM2-201F专用耗材

分析管	RGM-AN201F	RGM2-201F版
离子源	RGM-IS01F	RGM2-201F版
灯丝盒	RGM-FL01F	RGM2-201F版
孔口	RGM-OF030F	RGM2-201F用0.5~30Pa
孔口	RGM-OF010F	RGM2-201F用10~500Pa

RGM / RGM2-202,302专用耗材

分析管	RGM-AN202/302	RGM2-202.302共享
灯丝	QFL-002	RGM2-202.302共享
离子源	RGM-IS01	RGM2-202.302共享
二次电子倍增管	QEM-001	RGM2-202.302共享
孔口	QOF-100	RGM2-202/302,REPROS共享
孔口	QOF-040	RGM2-202/302,REPROS共享
孔口	QOF-010	RGM2-202/302,REPROS共享
孔口	QOF-005	RGM2-202/302,REPROS共享

CVD-ALD-Etching-process

Qulee RGM2 系列

RGM2-202

反应性气体分析仪Qulee RGM2-202是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。

特点

可以在反应过程中长时间进行稳定的测量
采用具有磁场的Claude离子源
软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少
紧凑型流量控制阀
处理室到离子源的距离很短，可以快速响应分辨率
可以测量宽范围的压力10^-6 to 13kPa（口径可选）
无需电脑也可以测量
One Click机能（对每个人来说都很容易，不需要复杂的操作）
连接传感器单元时，最大可以进行120℃的高温烘烤
离子源，二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性（专利申请中）
可进行氦气检漏，漏气测试
标准搭载软件（Windows 8/10/11）

用途

CVD/ALD/蚀刻设备
监测工艺中的反应气体
蚀刻和清洁工艺的末端监测
残留气体测量
检漏

规格

型号	RGM2-202	RGM2-302
传感器
质量分离方式	四极型质量分析仪
质量数范围	1～200 amu	1～300 amu
分解能	M/△M=1M (10%P.H.)
检出器	SEM/法拉第杯
感度	1×10^-3 A/Pa
最小检知分圧	1×10^-10 Pa
离子源	带磁铁的闭合离子源
灯丝	V字型 Ir/Y₂O₃ 1个
电力电压	20～70 eV
放射电流	10μA
放大器范围	1×10^-5～1×10^-12 A
可烘烤温度	120℃
差動排气系统
气体导入阀	带孔流量控制阀
最大采样压力	13kPa
差动排气系统	带中间排气，吹扫的涡轮分子泵。
涡轮分子泵	67L/s：N₂
前级泵	DIS090
皮拉尼真空计	SW1-1
电离真空计	GI-M2
质量	排气系：57kg／控制系：38kg
效用
电源电压	AC100V 15A
压缩空气	Dry N₂：0.4～0.7MPa (Φ6一触式配件)
控制器单元
One Click功能	有 / He / H₂O / N₂/ O₂/ Any gas
PC交互	RS-232C / 485
外部入输出	类似物输入2点（0-10V）
	设定点输出2点（异常、警告）
	外部联锁（压力保护）
其他
烘烤加热器	带式加热器
高度调整架	标准
传感器部一控制部链接电线	约5m
接口	Ethernet
软件	Qulee QCS Ver.4.2以降（Windows 8/10/11）适用
选项	PC