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CVD-ALD-Etching-process

Qulee RGM2 系列

RGM2-201F

アルバック

反应过程气体监视器Qulee RGM2-201F是Qulee系列的对应蚀刻、CVD、ALD装置等反应性气体的带差动排气系统的过程监视器。由于ULVAC独特的离子源和排气系统结构，对反应性气体具有优异的耐腐蚀性，可以长时间稳定测量。

特点

排气系统和控制系统集成，实现纵向放置，即使在空间有限的生产线上也可以进行反应气体监测，因为足迹是世界上最小的。
在维护期间，灯丝套件的更换速度大大提高2名工人在10分钟内完成了120分钟的工作。
使用双灯丝，即使第一根灯丝断线，也可以在不停止生产线的情况下进行气体分析。
采用触摸屏，可以实时检查情况。
从启动到测量的操作仅在个人计算机上完成。
采用敝公司独特的带磁铁的Closed Ion Source,即使在反应性过程中也可以长时间稳定测量。
由于具有低气体解离和高灵敏度的电离室，因此仅使用法拉第杯就可以进行高灵敏度的气体分析。
一种紧凑的流道控制阀，可防止热反应引起的分解和吸附。
缩短了从工艺室到离子源的距离，可以快速响应分解。
增强预防保护功能
离子源，二次电子倍增管的预防性保护
安装分析管的可追溯性功能 (专利5016031号)
标准软件与Windows 8/10/11兼容。

用途

CVD·ALD·Etching装置

过程中反应气体的监测
蚀刻清洗过程的端点监视器
残余气体测量

规格

传感器

质量数范围 (amu)	1~200
分辨率 (M/ΔM)	M/ΔM=1M(10%P.H.)
探测器	法拉第杯 (FC)
灵敏度 (A/Pa) ^*¹	1e-5A/Pa (孔口直接引入，Ie=50uA) Ee50V时，N2气体=5e-4Pa
最小检测分压 (Pa) ^*¹	e-10Pa台(EE50V, Ie500uA时)
全压测定功能 ^*¹	有
全压测定范围 ^*¹	1e-3~e-6 Pa台
离子源	带磁铁的Closed Ion Source
灯丝	Ir/Y2O32支 (其中1支为备用)
电离电压 (EE;eV)	20~70eV (Ie50uA时建议使用50V设置)
发射电流 (IE;uA)	50uA/500uA (流程测量建议使用EE50V、50uA)

*1 备用灯丝 (FIL2) 不适用

差动排气系统

连接法兰	VCR1/2"螺母等价品
规格压力	从0.5~30Pa/10~500Pa中选择
涡轮分子泵	UTM70B(70L/s)
前置泵	无前导:KF16 工作保证正线压力:500Pa以下用于确认正线压力的皮拉尼真空计:SW100-A
装置压力监测用真空计	电容测量仪CCMT系列

实用程序

电源电压	选择AC100~120V/6A, AC200~220V/3A
压缩空气	Dry N2:0.4MPa

其他

质量	20Kg
控制单元	触摸屏
块状加热器	110°C±10°C

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可选部件・消耗品

RGM2-201F专用选项

VCR转换管道	VCR-NW16	NW夹子，居中
VCR转换管道	VCR-NW25	NW夹子，居中
VCR转换管道	VCR-NW40	NW夹子，居中

RGM2-201F专用耗材

分析管	RGM-AN201F	RGM2-201F版
离子源	RGM-IS01F	RGM2-201F版
灯丝盒	RGM-FL01F	RGM2-201F版
孔口	RGM-OF030F	RGM2-201F用0.5~30Pa
孔口	RGM-OF010F	RGM2-201F用10~500Pa

RGM / RGM2-202,302专用耗材

分析管	RGM-AN202/302	RGM2-202.302共享
灯丝	QFL-002	RGM2-202.302共享
离子源	RGM-IS01	RGM2-202.302共享
二次电子倍增管	QEM-001	RGM2-202.302共享
孔口	QOF-100	RGM2-202/302,REPROS共享
孔口	QOF-040	RGM2-202/302,REPROS共享
孔口	QOF-010	RGM2-202/302,REPROS共享
孔口	QOF-005	RGM2-202/302,REPROS共享

特点

排气系统和控制系统集成，实现纵向放置，即使在空间有限的生产线上也可以进行反应气体监测，因为足迹是世界上最小的。

在维护期间，灯丝套件的更换速度大大提高2名工人在10分钟内完成了120分钟的工作。

使用双灯丝，即使第一根灯丝断线，也可以在不停止生产线的情况下进行气体分析。

采用触摸屏，可以实时检查情况。

从启动到测量的操作仅在个人计算机上完成。

采用敝公司独特的带磁铁的Closed Ion Source,即使在反应性过程中也可以长时间稳定测量。

由于具有低气体解离和高灵敏度的电离室，因此仅使用法拉第杯就可以进行高灵敏度的气体分析。

一种紧凑的流道控制阀，可防止热反应引起的分解和吸附。

缩短了从工艺室到离子源的距离，可以快速响应分解。

增强预防保护功能
离子源，二次电子倍增管的预防性保护
安装分析管的可追溯性功能 (专利5016031号)

标准软件与Windows 8/10/11兼容。

规格

传感器

质量数范围 (amu)	1~200
分辨率 (M/ΔM)	M/ΔM=1M(10%P.H.)
探测器	法拉第杯 (FC)
灵敏度 (A/Pa) ^*¹	1e-5A/Pa (孔口直接引入，Ie=50uA) Ee50V时，N2气体=5e-4Pa
最小检测分压 (Pa) ^*¹	e-10Pa台(EE50V, Ie500uA时)
全压测定功能 ^*¹	有
全压测定范围 ^*¹	1e-3~e-6 Pa台
离子源	带磁铁的Closed Ion Source
灯丝	Ir/Y2O32支 (其中1支为备用)
电离电压 (EE;eV)	20~70eV (Ie50uA时建议使用50V设置)
发射电流 (IE;uA)	50uA/500uA (流程测量建议使用EE50V、50uA)

*1 备用灯丝 (FIL2) 不适用

差动排气系统

连接法兰	VCR1/2"螺母等价品
规格压力	从0.5~30Pa/10~500Pa中选择
涡轮分子泵	UTM70B(70L/s)
前置泵	无前导:KF16 工作保证正线压力:500Pa以下用于确认正线压力的皮拉尼真空计:SW100-A
装置压力监测用真空计	电容测量仪CCMT系列

实用程序

电源电压	选择AC100~120V/6A, AC200~220V/3A
压缩空气	Dry N2:0.4MPa

其他

质量	20Kg
控制单元	触摸屏
块状加热器	110°C±10°C