反应性工艺

Qulee RGM2 系列

RGM2-302

アルバック

反应性气体分析仪Qulee RGM-202/RGM-302是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构,具有优良的抗活性气体腐蚀性能,长期稳定测量。

特点

  • 可以在反应过程中长时间进行稳定的测量
  • 采用具有磁场的Claude离子源
    软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附,同时气体离解较少
  • 紧凑型流量控制阀
    处理室到离子源的距离很短,可以快速响应分辨率
  • 可以测量宽范围的压力10-6 to 13kPa(口径可选)
  • 无需电脑也可以测量
  • One Click机能(对每个人来说都很容易,不需要复杂的操作)
  • 连接传感器单元时,最大可以进行120℃的高温烘烤
  • 离子源,二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性(专利申请中)
  • 可进行氦气检漏,漏气测试
  • 标准搭载软件(Windows XP/7)

用途

  • 蚀刻和CVD设备
    监测工艺中的反应气体
    蚀刻和清洁工艺的末端监测
    残留气体测量
    检漏

规格

型号 RGM2-202 RGM2-302
传感器
质量分离方式 四极型质量分析仪
质量数范围 1~200 amu 1~300 amu
分解能 M/△M=1M (10%P.H.)
检出器 SEM/法拉第杯
感度 1×10-3 A/Pa
最小检知分圧 1×10-10 Pa
离子源 带磁铁的闭合离子源
灯丝 V字型 Ir/Y2O₃ 1个
电力电压 20~70 eV
放射电流 10μA
放大器范围 1×10-5~1×10-12 A
可烘烤温度 120℃
差動排气系统
气体导入阀 带孔流量控制阀
最大采样压力 13kPa
差动排气系统 带中间排气,吹扫的涡轮分子泵。
涡轮分子泵 67L/s:N₂
前级泵 DIS090
皮拉尼真空计 SW1-1
电离真空计 GI-M2
质量 排气系:57kg/控制系:38kg
效用
电源电压 AC100V 15A
压缩空气 Dry N2:0.4~0.7MPa (Φ6一触式配件)
控制器单元
One Click功能 有/He/H2O/N2/O2/Any gas
PC交互 RS-232C/485
外部入输出 类似物输入2点(0-10V)
设定点输出2点(异常、警告)
外部联锁(压力保护)
其他
烘烤加热器 带式加热器
高度调整架 标准
传感器部一控制部链接电线 约5m
接口 Ethernet
软件 Qulee QCS Ver.4.0以降(Windows 7/8/10 対応)
选项 PC

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