溅射设备 Model:VTR-151M/SRF
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配有RF电源的小型高频溅射设备。
可以实现金属，半导体，绝缘体成膜，因此非常适用于基础研究开发等实验用途。
特点
- 绝缘，金属，半导体材料的溅射设备。
- 主泵使用分子泵。
- 可以在2inch×3阴极上最多3层，多层成膜。
- 通过磁控溅射，溅射速度可达到30nm/min（SiO2）。
- 搭载了基板加热机构（350℃）。
规格
| model | VTR-151M/SRF (SCOTT-C3) | |
| 真空性能 | 极限压力 | 6.6×10-４Pa |
| 排气时间 | 6.6×10-３Pa/5min | |
| 真空槽 | 真空槽 | 金属腔（内径Φ310.5mm×高160mm) |
| 阴极 | 2inch、3元 | |
| 基板推荐尺寸 | Φ2inch（Φ50.8mm） ×t1mm | |
| 有効成膜范围 | 25mm | |
| 成膜速度 | SiO2 SiO2, 成膜30nm/min以上 | |
| 膜厚分布 | SiO2 SiO2, 成膜25mm范围±10％以内 | |
| 基板加热温度 | Max 350℃ | |
| 基板／电极间距 | 50mm ～ 90mm （可変：半固定） | |
| 排气系统 | 主泵 | 分子泵 250L/sec |
| 液体氮气捕集器 | ー | |
| 補助泵 | 油回转泵 200L/min | |
| 油雾捕集器 | 油雾捕集器 OMT-200A | |
| 操作系统 | 主阀 | 蝶阀 |
| 補助阀 | 三通阀 | |
| 自动泄露阀 | 选项 | |
| 操作 | 手动 | |
| 控制系统 | RF电源 | Max 300W (0～300Ｗ可変） |
| 皮拉尼真空计 | GP-1GRY | |
| 电离真空计 | ISG1/SH2-1 | |
| 设置 | 最大尺寸 | 1081mm（W）×853mm（D）×1104mm（H） |
| 质量 | 400kg | |
效用
| 型式 | VTR-151M/SRF (SCOTT-C3) |
| 所要电气量 | 200V 单相 50/60Hz 3.5kVA |
| 接地端子 | A种 （接地抵抗値 10Ω以下） |
| 所要水量 | 2.0 L／min (水温:25℃以下、水圧:200kPa（表压）) |
| 组合连接（电源） | 橡胶绝缘软管4m 附R3.5-5压接端子 |
| 组合连接（接地） | 接地电缆 4m 附R5.5-8压接端子 |
| 组合连接（水） | 涤纶软管（内径9mm×外径15mm）、4m（2根） |
尺寸图
真空槽内部构成
基本构成
| [1] | 密封法兰 |
| [2] | 电极隔板 |
| [3] | 阴极 |
| [4] | 气体导入 |
| [5] | 视窗 |
| [6] | 快门处理 |
| [7] | 快门 |
| [8] | 排气阀 |
| [9] | 真空计端口 |
支架图
[標準]
[特型例]
※我们将根据您的研发目的进行定制。
可选配件
| ●气体导入追加 | ●DC电源 |
| ●流量控制器 | ●Φ4inch 1元 |
| ●基板加热 600℃ (水冷) |
