アルバックグループの
熱処理・熱物性評価装置

本装置は、厚さ方向でゼーベック係数と電気抵抗率の測定が可能となり、異方性を有する材料の熱電特性を、測定方向を一致させて評価することが可能となります。

熱電材料の熱電率（ゼーベック係数）と電気伝導率を同時に測定する装置です。
簡単な操作で-80℃～1000℃までの温度範囲の測定機を準備しております。

各種熱電材料の特性や薄膜などの特殊仕様に対応したシリーズ。
熱電材料の開発が進むにつれ、各種材料で、より高いレベルの評価が求められるようになりました。
本装置「熱電特性評価装置 ZEM-5 シリーズ」は、高温、高抵抗、薄膜など、各種材料の特長に特化した仕様で、さまざまなニーズにお応えできる性能評価装置です。

本装置は、熱電モジュールを実使用する環境（大気中・荷重下）で、そのモジュールに対して温度差を与えた時に回収できる最大発電量や熱流量、及びその結果から算出する事ができる変換効率を評価できます。
また長時間稼働や熱サイクルによる熱電モジュールの評価試験も行う事ができ、モジュールの新規開発目的としての使用は勿論、市販のモジュールが実際に組み込まれる温度や荷重での耐久性評価も可能です。

熱電発電モジュールの特性評価。
熱電発電モジュールに最大500℃の温度差をつけて、モジュールに一次元の熱流Qを貫流させたときに発電する電力Pを求めて熱電変換率ηを求める装置です。

単素子や一対モジュールなどの熱電変換効率を測定
本装置は、熱電モジュールの発電量だけでなく、変換効率を評価できる装置です。
変換効率は、4 端子法による計測に基づいた発電量の電流依存性と熱流計で計測した熱流量から評価します。
高温部は、500℃（標準仕様）まで上げることができ、低温部は、液体を流し冷却します。

熱電材料をはじめ、幅広い材料の熱伝導率測定。
レーザフラッシュ法によって熱電材料、セラミックス、カーボン、金属など均質な固体材料の熱3 定数（熱拡散率、比熱容量、熱伝導率）を測定する装置です。

サーマルプローブによるゼーベック係数と熱伝導率の2次元分布測定装置。
本装置は、ゼーベック係数と熱伝導率を同時に評価出来る分布測定装置です。
同時評価により熱電特性の簡易評価が可能です。
また、傾斜機能材料、多層基板、有機材料の熱伝導性分布評価することも可能です。
材料評価における基本的なツールとしての利用が期待されています。

本装置は、放熱フィルムなどの厚さ方向や内面異方性評価測定が可能です。
キセノンランプの採用により、試料に対する攻撃性を軽減しており、専用のアタッチメントを用いることにより、試料の異方性の測定が簡単に行えます。

本装置は、２ω法を用いたナノ薄膜の厚さ方向の熱伝導率を測る世界で唯一の市販装置です。
他の方式と比べ、試料の製作や測定が簡単に行えます。

本装置は、スキャニングレーザ加熱AC法により、フィルム、薄板、薄膜などの薄板材料の面内方向熱拡散率測定装置です。高熱伝導膜の場合は、サブ・ミクロン薄膜の測定も可能です。

フラッシュ法では測定が難しい薄いフィルム試料を簡便に評価。
交流ジュール加熱法を用いてフィルム状高分子、紙、セラミックスなど固体の厚さ方向の熱拡散率を測定する装置です。
測定範囲をニーズの高い室温専用タイプとしたことで、コンパクトなボディと低価格を実現しました。

高分子、ガラスなどの熱伝導性評価。
本装置は、米国規格ASTM E1530に準拠した熱流計方式定常法熱伝導率測定装置です。
50～280℃までの温度範囲にわたり比較的低熱伝導材料の測定を行う装置です。

3000Kまで、1秒以内に昇温！
本装置は、電流を試料に直接通電することにより、試料を1 秒以内に超高温下まで加熱し、熱物性を測定する装置です。
基本物性は、電気抵抗率、全放射率、比熱容量、熱膨張率、熱拡散率です。

絶縁体試料の温度依存性測定。
セラミックス、プラスチックス、ガラスなどの絶縁物の温度依存性測定が可能です。

金属の相変態、時効、再結晶反応。
金属合金、半導体の電気抵抗を直流四端子法で精密測定が可能です。

比熱容量、潜熱、変態点の測定。
断熱制御方式により精密な比熱容量、潜熱、変態点の測定が可能です。

バルク材料の熱膨張測定装置。
さまざまな固体試料の線膨張、収縮測定が可能です。

全自動無人運転で品質管理業務の省力化。
ロボット熱膨張計は品質管理業務における測定の標準化と省力化を目的に開発された装置です。
優れた再現性と無人運転における安全対策や測定結果の作図・作表機能により、品質管理に最適です。

低膨張フィルム・有機フィルムの厚さ方向、低膨張ガラス・金属等の微小熱膨張が最小分解能1nmで検出可能。
熱膨張の測定法は、押し棒式、光干渉法、望遠測長法、キャパシタ法などがあります。
最も高精度測定が可能とされている二重光路マイケルソンレーザ光干渉法を採用しています。
ゼロ摩擦平行移動ミラーの採用により、試料端面を球面加工するだけで簡単に測定することができます。
また、オプションの石英スペーサを使用して、低膨張フィルムに求められる厚さ方向の測定を温度可変しながら、測定することができます。
二重光路マイケルソンレーザ光干渉法熱膨張計LIX-2 は、業界唯一の市販モデルです。

精密天秤機構によりゼロ荷重バランスが向上し、固体試料はもとより、高分子材料などの測定・評価が安定して行えます。
また、オプションの湿度膨張測定システム（HC-1型）を付加することにより20～80％ RHの加湿下で各種モード測定が可能です。

TGD-9000 シリーズは、室温から超高温領域までの広範囲なTG/DTA測定が可能です。
また、赤外線ゴールドイメージ炉を搭載したモデルは、加熱速度を低速度から高速度までの多様な加熱条件を実現します。

全機種高感度センサを標準装備。
DSC-R シリーズは、厳密な熱設計により、高安定なベースラインを実現します。
通常スタンダード仕様では、困難であった比熱容量の測定を可能にしました。
また、標準機でありながら、1.6μWの感度を実現しています。

真空中での重量変化測定。
本装置は高分子や有機色素材料の飽和蒸気圧・熱挙動を評価する装置です。
真空中でも安定した測定が可能な圧力制御法を採用。
また、赤外線ゴールドイメージ炉を搭載して精密な温度の制御性、応答性を実現しています。

有機材料の高純度化。
有機色素は純度が悪く、多くの不純物を含んでいます。
そのため、その試薬を使って得られた薄膜の物性は、固有のものではなく不純物によって変られています。
本装置は、最大2ゾーンの温度勾配により高純度有機材料を得ることが出来ます。

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。
高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。

カーボンナノチューブの生成装置や生産装置まで幅広い分野でご利用可能。
平板面状放射型赤外線加熱炉はΦ2in～Φ300mmまでのウエハ用アニールシステムや生産用焼成炉などにご利用頂けます。

高速加熱に精度よく対応可能な温調器。
高速昇温時の早いレスポンスが要求される赤外線ゴールドイメージ炉はもとより低速昇温炉用にも対応できるプログラム温度制御器です。
高機能・高性能をコンパクトにパッケージし、豊富なアクセサリーを揃えて低価格でお応えします。

保持まで10秒！赤外線ランプ加熱で2インチから300mmまでの高速熱処理
赤外線ランプ加熱は、高エネルギー密度、近赤外線、高熱応答性、温度制御性、コールドウォールによるクリーン加熱などの特長を最大限に活かした加熱方式です。各種プロセスレシピ（加熱・冷却）、ガスの種類及び流量制御とともに最適なプロセス条件を見出すのに適したRTAシリーズで、お客様のニーズにお応えします。

低コストで80℃/sの高速アニールが可能。
本装置は、放物面反射赤外線ランプにより、4-6インチサイズのウエハを均一に加熱することを目的とした赤外線ランプ装置です。
高速熱処理が可能で、熱処理プロセスの研究・開発用装置として手軽にご利用いただけます。
個別半導体プロセスのシリサイド形成や酸化膜形成、化合物半導体のプロセスアニールが可能です。

本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。
試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱･冷却､クリーン加熱が行なえます｡
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロｰラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です｡
加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ､手軽にデータ管理出来ます。

冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。
冷却は空冷ファン採用なので壁コンセント（AC100V）さえあれば直ちに加熱が出来ます。

赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。
赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構成される低価格の加熱システムです。

太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。
QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・冷却装置です。
お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。

スポット集光で超高温熱処理。
回転楕円反射面をもち、シングル又はダブルタイプのチャンバと組合せることにより、極めて高い反射効率を実現したコンパクトなスポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉です。焦点を合わせることにより1800℃までの昇温が可能です。

材料の加熱後に試料を落下させ、水クエンチ 不活性ガス雰囲気中で最高1800 ℃まで加熱可能

小片試料を1800℃まで10秒で昇温
SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1800℃まで昇温可能な卓上型超高温ランプアニール装置です。

熱処理目的に応じた加熱システム形成。
本装置は部材の形状とプロセス上の熱処理目的に応じて加熱炉及び加熱システムが形成されます。
高速加熱・高速冷却、クリーン加熱を最大限活用し無公害・省エネルギー・高機能化に適した加熱炉を提供致します。

CASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって急速加熱や急速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し、鉄鋼材料においていままで困難であったプロセスの熱処理シミュレーションを高精度に実現できる装置です。
薄板鋼板をはじめ厚板鋼板、ステンレス板、電磁鋼板などの汎用熱処理試験からプロセス熱処理シミュレーション試験まで対応しています。
鋼板の変態点が簡易に割り出せるCASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって高速加熱・高速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し、鉄鋼材料においていままで困難であったプロセスの熱処理シミュレーションを高精度に実現できる装置です。
薄板鋼板をはじめ厚板鋼板、ステンレス板、電磁鋼板などの汎用熱処理試験からプロセス熱処理シミュレーション試験まで対応しています。

イメージ加熱と最新の光学システムで鮮明観察。
金属材料の結晶変態、析出及び凝固の観察や各種材料の溶融状態、析出物の観察、高分子材料の結晶→融解→再凝固までの熱サイクル測定が可能。

変態点の検出、CCT図・TTT図の測定・作図を行うことが可能。
金属試験片を室温～最高1350℃までの温度範囲にわたり高速加熱・高速冷却を行うことが出来ます。
それにより得られる【時間-温度・変位（長さ）】曲線より変態点（変態温度）を測定することが出来ます。
サブゼロ機構では液体窒素の気化潜熱を利用し、-150℃までの測定が可能になります。

円錐形圧子を小試験片に押し当てることで、高温下で材料のクリープ挙動を測定できます。
新たな原理に基づいたマイクロインデンテーション試験機で、従来のような大試料を必要としません。

鉄鋼中のカーボン、窒素の定量分析。
自由減衰法により鉄鋼の内部摩擦を測定する装置です。

異なる「ターゲット」を同時に蒸着。
本蒸着源を既存のアークプラズマ法ナノ粒子形成装置APD シリーズやお手持ちの真空チャンバに増設することで、異なる「ターゲット」を同時に蒸着でき、新たな特性を持つ材料の生成が可能となります。

パルス真空アーク放電を利用した新しいナノ粒子形成装置。
パルス真空アーク蒸着は、シンプルなプロセスで金属イオンを生成し、極薄膜やナノ粒子を形成する唯一の手法です。
膜の平坦性、微粒子の形成など、他の蒸着法では得られない効果を得ることができます。

基板とインゴットの濡れ性を的確に観察可能。
1993年宇宙開発事業団に納入した濡れ性試験・接触角測定装置をベースに小型で低価格な高温濡れ性試験・接触角測定装置として製品化しました。
静滴法の他に押し出し液滴法（オプション）による測定ができます。

表面間の特性、相互作用を直接測定 不透明試料も測れる唯一の表面力装置 本装置は、従来の共振ずり測定装置「RSM-1」から共振ずり測定部を除き、表面力測定に機能をしぼったモデルです。
２つの表面間に働く相互作用の距離依存性や接着力などの測定が可能です。
また、ツインパス法（反射式レーザ干渉計）により、不透明物質の測定も可能とし、オプションの集光加熱システムにより試料温度を室温～100℃まで変えて測定できます。
共振ずり測定部は、後から増設も可能です。 ※本装置は東北大学・栗原研究室と共同で開発しました。

ナノレオロジー・ナノトライボロジーの究極測定
微細空間に束縛された液体のレオロジー、トライボロジー特性を連続的に、分子レベルで評価できます。表面力装置（SFA）としての使用も可能で、２つの表面間に働く相互作用の距離依存性や接着力などを測定できます。また、ツインパス法（反射型レーザ干渉計）により、不透明物質の測定も可能とし、オプションの集光加熱システムにより試料温度を室温～100℃まで変えて測定できます。
※本装置は東北大学・栗原研究室と共同で開発しました。

目的温度まで短時間で昇温、200amuの質量分析が可能
目的の温度まで昇温させ、試料より脱離してくるガスを四重極型マスフィルタで計測する昇温脱離ガス分析装置です。

ガス透過量の絶対値を高感度に測定。
本装置は、国立研究開発法人産業技術総合研究所が開発しました。
標準コンダクタンスユニットを搭載することで、透過量の絶対値を高感度に測定できるガス透過率測定装置です。

微生物増殖活動のリアルタイムモニタリングが可能。
本システムは、微生物が出す「熱」をリアルタイムに測定することで、微生物の増殖活動を評価するシステムです。
固体・液体を 含む不均一な試料であっても、形状を変えることなく、非破壊的に微生物の増殖曲線／増殖速度を計測することができます。

手軽な汎用ハンディタイプ溶接器
HS-9000は、熱電対、箔、薄板等の各種金属のスポット溶接用に製作された溶接器です。
短時間の局所溶接のため酸化、熱変形などの影響が少なく、精密な溶接が可能です。

安全操作の小型ハンディタイプ溶接器
HA-1Hは、酸化しやすい素線の場合も熱電対素線の先端を超高温カーボンアークにて素線を完全溶融し、球状の測温接点を作ります。
特殊フラックスにより酸化防止層を生成することで綺麗な接点が手軽に作れます。