赤外線ゴールドイメージ炉/RTA装置｜熱処理・熱物性評価装置｜製品情報

赤外線ゴールドイメージ炉

RHL-E/VHT/P シリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。
高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。

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赤外線ゴールドイメージ炉

Ps,Pssシリーズ

カーボンナノチューブの生成装置や生産装置まで幅広い分野でご利用可能。
平板面状放射型赤外線加熱炉はΦ2in～Φ300mmまでのウエハ用アニールシステムや生産用焼成炉などにご利用頂けます。

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プログラム温度コントローラ

TPC-5000シリーズ

高速加熱に精度よく対応可能な温調器。
高速昇温時の早いレスポンスが要求される赤外線ゴールドイメージ炉はもとより低速昇温炉用にも対応できるプログラム温度制御器です。
高機能・高性能をコンパクトにパッケージし、豊富なアクセサリーを揃えて低価格でお応えします。

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赤外線ランプアニール装置

RTAシリーズ

保持まで10秒！赤外線ランプ加熱で2インチから300mmまでの高速熱処理
赤外線ランプ加熱は、高エネルギー密度、近赤外線、高熱応答性、温度制御性、コールドウォールによるクリーン加熱などの特長を最大限に活かした加熱方式です。各種プロセスレシピ（加熱・冷却）、ガスの種類及び流量制御とともに最適なプロセス条件を見出すのに適したRTAシリーズで、お客様のニーズにお応えします。

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雰囲気可変型ランプ加熱装置

RTP-6

低コストで80℃/sの高速アニールが可能。
本装置は、放物面反射赤外線ランプにより、4-6インチサイズのウエハを均一に加熱することを目的とした赤外線ランプ装置です。
高速熱処理が可能で、熱処理プロセスの研究・開発用装置として手軽にご利用いただけます。
個別半導体プロセスのシリサイド形成や酸化膜形成、化合物半導体のプロセスアニールが可能です。

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雰囲気可変型ランプ加熱装置

QHCシリーズ/VHCシリーズ

太陽電池/化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能。
QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・冷却装置です。
お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。

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本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。
試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

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卓上型ランプ加熱装置

MILA-5000シリーズ

MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱･冷却､クリーン加熱が行なえます｡
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロｰラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です｡
加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ､手軽にデータ管理出来ます。

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