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赤外線ゴールドイメージ炉/RTA装置
卓上型ランプ加熱装置
MILA-5000シリーズ
アルバック販売
MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱･冷却､クリーン加熱が行なえます｡
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロｰラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です｡
加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ､手軽にデータ管理出来ます。
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロｰラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です｡
加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ､手軽にデータ管理出来ます。
特長
- 強誘電体薄膜の結晶アニール
- イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
- Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
- ガラス基板の均熱アニール計
- 熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
- 昇温脱理試験用加熱炉
- 触媒効果試験
用途
- 真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
- 精密な温度コントロール
- 卓上型でコンパクトな設計
- お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が、簡単に実行可能
- 加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能
仕様
| 型式 | MILA-5000-P-F（均熱型） | MILA-5000-P-N（高温型） | MILA-5000UHV（高温・高真空型） |
|---|---|---|---|
| 温度範囲 | RT ～ 800℃ | RT ～ 1200℃ | |
| 試料寸法 | 角 20mm × 厚 2mm | ||
| 加熱雰囲気 | 大気中、真空中、不活性ガス中 | 大気中、高真空中、不活性ガス中 | |
| 到達真空度 | 6.5Pa（RP*1使用、室温無負荷） | 10-4Pa（TMP*1使用、室温無負荷） | |
＊1 真空排気装置はオプション
＊2 加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。
オプション例
試料観察用CCDカメラユニット
加熱中の試料を観察
試料観察用CCD カメラユニットを取り付ければ、加熱時の試料の変化をパソコンに取り込めます。
電気抵抗測定ユニット
熱処理しながら電気抵抗率測定
電気抵抗測定ユニットに差し替え、お手持ちのデジタルマルチメータにつなぐだけで、加熱しながら電気抵抗率の測定が可能です。
高温型
MILA5000-P-N型最高昇温速度
サンプル : W20×L20×t0.5（mm） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V4kW100%出力
MILA5000-P-N型温度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（ｍｍ） Ni板材
雰囲気 : 真空中
TC（K）測定点
均熱型
MILA5000-P-F型最高昇温速度
サンプル : W20×L20×t0.5（mm） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V1kW100%出力
MILA5000-P-F型温度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（mm） Ni板材
雰囲気 : N2ガスフロー中
TC（K）測定点
