アルバックグループの
プラズマ発生用電源
プラズマ発生用電源の導入・購入・検討について
プラズマ発生用電源または成膜用電源は、電極間に電圧をかけてプラズマを発生させる装置です。この技術を利用することで、PVD（スパッタリングなど）、CVD、エッチング、アッシングといった真空プロセスが可能となります。これらのプロセスにより、基板などの被成膜物に膜を形成したり削ったりして新たな付加価値を生み出します。この技術は、私たちの身近な製品にも幅広く活用されています。
成膜プロセスにはPVD（スパッタリングなど）やCVD、エッチング、アッシングなどがあり、それぞれに適した電源が必要です。どのプロセスを採用し、どのような膜を形成するかにより最適な電源が異なるため、各電源の特徴を十分に理解し、目的に合った選択をすることが求められます。
例えば、高精度な膜が必要な場合や大量生産に対応する際には、それぞれの要件に応じた電源が必要です。また、複数の電源を組み合わせて使用することも一般的で、これには各社独自のノウハウが活かされています。ここに紹介しているプロセス・電源対比表は一般的な参考資料に過ぎず、すべてのプロセスや用途を網羅するものではありません。具体的な用途に応じて、最適な電源を慎重に選択することが重要です。
ポンプ種類
パルス及び直流電源システム
アルバックのパルス及び直流電源システムは、以下の製品ラインナップを揃え、さまざまなスパッタリングプロセスに対応しています。
・DC電源（直流電源）：DCシリーズ/Digital DCシリーズ
・DCパルス電源：DC PULSEシリーズ
・LF電源：SG
・外付けユニット：A2Kシリーズ/MFU
これらの製品は、スパッタリングプロセスにおける問題点を改善する機能を備えており、研究開発から生産ラインまで、幅広い分野や用途でご利用いただけます。
直流電源_DCシリーズ
DCシリーズ
DCシリーズは、スパッタリング用直流電源（DC電源）です。信頼性のある部品と回路で構成しております。
長年培ってきた電源のアプリケーションを含めたノウハウを設計に反映したプラズマ負荷に最適な信頼性の高い電源です。
直流電源_Digital DCシリーズ
Digital DCシリーズ
Digital DCシリーズは、スパッタリング用直流電源（DC電源）です。
信頼性のある部品と回路で構成しております。長年培ってきた電源のアプリケーションを含めたノウハウを設計に反映したプラズマ負荷に最適な信頼性の高い電源です。
DCパルス電源_DC PULSEシリーズ
DC PULSEシリーズ
DC PULSEシリーズは、反応性プロセスで発生する異常放電を抑制するのに有効なパルス電源です。
この電源は、設定した周期で出力電圧を反転し、ターゲット表面の電荷蓄積（チャージアップ）を打ち消すことで、異常放電を抑制し、歩留り・スループットの向上を実現します。
LF電源_SG
SG-10
LF電源は、デュアルカソードスパッタリング、プラズマ CVD などのプラズマ発⽣⽤に設計されたものです。
プラズマ負荷に対し 20kHz〜100kHz の周波数において定格出⼒を連続で出⼒することができます。
⻑年培ってきた電源のアプリケーションを含めたノウハウを設計に反映したプラズマ負荷に最適な信頼性の高い電源です。
パルスユニット_A2Kシリーズ
A2Kシリーズ
DC電源の外付けユニットとしてラインナップしているA2KシリーズはDC出力をパルス出力に変換しターゲット上の電荷を中和する異常放電防止ユニットとなります。
パイポーラユニット_MFU
MFU-20K
DC電源の外付けユニットとしてラインナップしているMFUはデュアルカソードのスパッタに用いるためのバイポーラユニットです。
金属膜だけではなく反応性の成膜でも威力を発揮します。アノードが消失することなく安定したスパッタリングを実現します。
高周波電源システム
アルバックでは、以下の高周波電源を取り揃えています。
・整合器内蔵型高周波電源：RMG
・汎用性の高い高周波電源システム（RF電源システム）：Nシリーズ
・豊富な高周波電源のためのオプション：MEX-Nシリーズ/EXNシリーズ/PHS-Nシリーズ/EXO
また、電源を搭載する真空装置において最も重要な信頼性については、開発・設計段階から評価・製造まで一貫して力を注いで取り組んでいます。
整合器内蔵_高周波電源_RMG
RMG-1303
RMG-1303はRFスパッタリング、プラズマCVD、エッチング等のプラズマプロセス用の13.56MHz,300W出力の整合器内蔵型RF電源です。
整合器とRF電源を一体化したことで小型･軽量化を実現しています。
低出力から制御が可能となっており、研究開発用途から量産装置まで幅広い分野でご使用いただくことができます。
高周波電源_Nシリーズ
Nシリーズ
RFS-Nシリーズは13.56MHz,0.5kW/1/kW/3kW/5kW出力のプラズマプロセス用RF電源です。 高効率RFアンプを搭載することで小型・軽量化を実現しています。
さらにRF電源にオートマッチングコントローラ機能を内蔵していますので、RF電源本体のユニットのみでRF電源の電力制御とマッチングシステム制御が可能です。
高周波電源_オプション
EXNシリーズ
EXNシリーズはターゲット切替器であり、複数のDCスパッタ用電極やRFスパッタ用電極などに対し、電力の供給先を切替える為に使用し、または複数のDC電源やRF電源の出力を切替えて1つの電極へ供給する事ができます。
高周波電源_オプション
PHS-Nシリーズ
本システムは、RFスパッタリング、プラズマCVD、エッチングなどのプラズマ発生用電源の位相調整を行う目的で設計されたものです。
本システムは13.56MHz にて動作する複数台のRF電源に対し、それぞれの電源の出力の位相を任意に変化させる事が可能です。
高周波電源_オプション
EXO-13
本ユニットは、高周波電源用の外部発振源として設計されたものです。13.56MHz単一周波数において定格信号を出力することができます。
また本ユニットは、1～4つのBNC出力ポートを備えており、4台までの電源について同位相の高周波発振を行うことができます。
※ 接続電源の外部入力端子は50Ωに終端され、10mW以上100mW以下で動作できる必要があります。