CVD / ALD / Etchingプロセス
CVD / ALD / Etchingプロセスの導入・購入・検討について
プロセスガスモニタQulee RGM2シリーズは、CVDやエッチング、ALDプロセス向けのガス分析装置になります。反応性/腐食性ガス下でも長時間安定した測定を可能とし、クリーニングプロセスでのエンドポイントモニタリングはもとよりリーク監視、残留水分、その他不純物の監視に最適です。歩留まり管理に最適で、生産効率の向上を実現します。
CVD / ALD / Etchingプロセス
RGM2-201F
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-201FはQuleeシリーズのエッチング、CVD、ALD装置等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
CVD / ALD / Etchingプロセス
RGM2-202
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-202は、Quleeシリーズのエッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。
アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
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RGM2-302
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-302は、Quleeシリーズのエッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。
アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。