小型成膜装置|製品情報|ULVAC SHOWCASE

アルバックグループの
小型成膜装置

小型成膜装置の導入・購入・検討について

成膜装置とは、シリコンウェハなどの基板に薄膜を形成する装置です。
アルバックの小型実験用成膜装置は、研究開発や小規模生産に最適な高精度の成膜技術を提供します。コンパクトな設計により、限られたスペースでも効率的に使用可能です。

ポンプ種類

小型蒸着装置

蒸着とは、金属や酸化物などの物質を蒸発させて気化させ、基材の表面に堆積させて薄膜を形成する技術です。

蒸着プロセスでは、まず真空チャンバー内でターゲット材料を抵抗加熱、電子ビーム加熱、レーザー加熱などの方法で加熱し蒸発させ、その蒸気が真空中を移動して基板に向かい、真空環境によって拡散が最小限に抑えられた状態で基板表面に到達し、凝縮して均一で高品質な特性を持つ薄膜を形成します。

アルバックの小型実験用蒸着装置は、研究開発や小規模生産に最適な高精度の成膜技術を提供します。コンパクトな設計により、限られたスペースでも効率的に使用可能です。

小型蒸着装置

VPC-061

パイプフレームにメインポンプ・補助ポンプ・バルブ配管・電気系・圧力測定ポート等の必要機器をコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。
小さい基板サイズの基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VPC-061A

パイプフレームにメインポンプ・補助ポンプ・バルブ配管・電気系・圧力測定ポート等の必要機器をコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。
小さい基板サイズの基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VPC-260F

パイプフレームにメインポンプ・補助ポンプ・バルブ配管・電気系・圧力測定ポート等の必要機器をコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。
小さい基板サイズの基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VPC-1100

架台内に油拡散ポンプ・油回転真空ポンプ・ピラニ真空計・バルブ配管・電気系・圧力測定ポート等の必要機器をコンパクトに収納し、ベルジャー昇降装置等を装備している、抵抗加熱式で高速型の真空蒸着装置です。
大きい基板サイズの基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VFR-200M/ERH

架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電離真空計・バルブ配管・電気系等の必要機器をコンパクトに収納した、抵抗加熱式で小型の真空蒸着装置です。
DEPOXシリーズは、排気系の構成が異なる4タイプを用意しています。
取扱いが容易で基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VWR-400M/ERH

架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電離真空計・バルブ配管・電気系等の必要機器をコンパクトに収納した、抵抗加熱式で小型の真空蒸着装置です。
DEPOXシリーズは、排気系の構成が異なる4タイプを用意しています。
取扱いが容易で基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VTR-350M/ERH

架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電離真空計・バルブ配管・電気系等の必要機器をコ ンパクトに収納した、抵抗加熱式で小型の真空蒸着装置です。
DEPOXシリーズは、排気系の構成が異なる4タイプを用意しています。
取扱いが容易で基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VTS-350M/ERH

架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電離真空計・バルブ配管・電気系等の必要機器をコンパクトに収納した、抵抗加熱式で小型の真空蒸着装置です。
DEPOXシリーズは、排気系の構成が異なる4タイプを用意しています。
取扱いが容易で基礎研究開発等の実験用に最適です。

小型蒸着装置

VTR-060M/ERH

架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。
クリーン排気で基礎研究開発等の実験用に最適です。

スパッタリング装置

スパッタリングは、物理蒸着(PVD)技術の一種で、ターゲット材料から原子を放出し、基板上に薄膜を形成するプロセスです。

スパッタリングのプロセスは、まず真空チャンバー内にアルゴンなどの不活性ガスを導入し、電圧をかけてプラズマを生成することから始まります。次に、プラズマ中のアルゴンイオンがターゲット材料に衝突し、ターゲット表面の原子を弾き飛ばす「スパッタリング」が起こります。最後に、弾き飛ばされた原子が基板に到達し、均一で高品質な特性を持つ薄膜を形成します。

アルバックの小型実験用スパッタリング装置は、研究開発や小規模生産に最適な高精度の成膜技術を提供します。コンパクトな設計により、限られたスペースでも効率的に使用可能です。

スパッタリング装置

VTR-151M/SRF

RF電源を搭載した小型の高周波スパッタリング装置です。
金属、半導体、絶縁物の成膜が可能なため、基礎研究開発等の実験用に最適です。

スパッタリング装置

RFS-201

RF電源を搭載した小型の高周波スパッタリング装置です。
金属、半導体、絶縁物の成膜が可能なため、基礎研究開発等の実験用に最適です。

成膜装置オプショナルパーツ

アルバックの成膜装置のオプションです。

成膜装置オプショナルパーツ

蒸発電源 SEREM PSE-150C


蒸着用電源(外部自動制御機能付) 仕様選択により成膜コントローラ/温度調節計との組合せで制御が可能

成膜装置オプショナルパーツ

ベルジャーカバー


ベルジャーの保護と取手をかねています。

成膜装置オプショナルパーツ

ベルジャーホルダー


ベルジャーの取り付け、取り外しに便利な取手です。

成膜装置オプショナルパーツ

防着板


ベルジャー内面への薄膜付着を防ぎます。

成膜装置オプショナルパーツ

金属ベルジャー


ベルジャーの過熱防止用です。

成膜装置オプショナルパーツ

電極仕切り板


隣接する電極へのコンタミネーション防止用です。

成膜装置オプショナルパーツ

基盤加熱装置350℃

基板を加熱するための加熱台と計測機器のセットです。

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