通过新的测量方法“阻抗”实现稳定的成膜!
水晶式成膜控制器 Model:CRTM-R1
ULVAC

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关于Model:CRTM-R1的介绍、购买、商讨
荣获2022年度日本真空工业协会"真空元件/零件/材料奖"
CRTM-R1是基于ULVAC多年培育的技术开发的水晶式成膜控制器。通过采用新的测量方法,我们实现了速率稳定性和比以前的型号更高的分辨率。它可用于从金属薄膜到光学薄膜的各种气相沉积工艺。
特点
- 采用新的测量方法,速率稳定性显着提高。
- 能力(CI值)测量提高了晶体板的异常检测能力。
- 出色的薄膜厚度和速率分辨率(0.0018Å @5MHz)使其成为低速率沉积控制的理想选择。
- 最多可以同时控制 8 个元件。 (添加选项时)
- 通讯方式兼容以太网和RS-232C。
- CRTM-R1-EL上保存的各种日志数据可以以 CSV 格式传输到 USB。
用途
- 有机EL沉积和钙钛矿太阳能电池沉积工艺中的薄膜厚度、速率管理和控制
规格
频率 | 测量范围 | 4.00~3.00MHz@4MHz |
5.00~3.50MHz@5MHz | ||
6.00~4.50MHz@6MHz | ||
测量分辨率 | 1mHz | |
显示分辨率 | 1mHz | |
蒸镀速率 | 测量范围*1 | 0.000~999.9Å/s (0~99.99nm/s) |
测量分辨率*2 | 0.0028Å/s @4MHz | |
0.0018Å/s @5MHz | ||
0.0012Å/s @6MHz | ||
显示分辨率* | 0.001Å/s | |
膜厚 | 测量范围*1 | 0.000~9999kÅ (0~999.9μm) |
测量分辨率*2 | 0.0028Å @4MHz | |
0.0018Å @5MHz | ||
0.0012Å @6MHz | ||
显示分辨率*1 | 0.001kÅ | |
兼容传感器频率 | 4MHz、5MHz、6MHz | |
可安装传感器数量(单个传感器) | 2 (可选MAX8,IF卡:2点/卡x 4卡) | |
可安装传感器数量(Multi多连传感器) | 2 (可选MAX8,IF卡:2点/卡x 4卡) | |
采样率 | 100msec | |
Depo Program数 | 999 | |
Process Program数 | 99 | |
数字输入点数 | 14(MAX56作为选项,DIO卡:14点/张x 4张) | |
数字输出点数 | 8(MAX32可选,DIO卡:8点/张x 4张) | |
模拟输出点数 | 2(可选MAX16,IF卡:2点/张x 4张+AO车:8点/张x 1张) | |
模拟输出范围 | -10~+10V | |
通讯方式 | LAN (Ethernet) (1000BASE-T/100BASE-TX/10BASE-T) | |
RS-232C | ||
USB2.0 Type-B | ||
外形尺寸(宽x深x高) | CRTM-R1:约480×约320×约130mm | |
CTM-EL:约80×约152×约53mm | ||
质量kg | CRTM-R1:5.3kg(最大:5.8kg,带选件) | |
CTM-EL:0.6kg | ||
事业供电 | 交流100~240V±10%,50/60Hz | |
最大功耗 | 150W | |
兼容保险丝 | 250V2.5A(5×20mm 2个) | |
IP防护等级 | IP20 | |
过电压类别 | CAT.Ⅱ | |
海拔条件 | 海拔2000m以下 | |
污染程度 | 2 | |
使用环境 | 温度 5-40℃ | |
湿度 20-85 %RH(无凝结) | ||
仅限室内 | ||
储存环境 | 温度 -10 ~ 60℃(无电、无凝露) | |
湿度 20~ 85%RH(无凝露) | ||
热身时间 | 约30分钟 | |
兼容标准 | CE |
选项介绍
使用CRTM-R1-EL时,需要另外选购选配的CTM-EL(-D)+电缆组、传感器、导入法兰等。

传统CRTM与新型CRTM-R1-EL沉积率比较
CRTM-R1-EL噪音低,工作稳定。
【 新型 CRTM-R1-EL 】

【 従来型 CRTM 】