CVD/ALD/刻蚀工艺 Model:RGM2-202
ULVAC
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关于Model:RGM2-202的介绍、购买、商讨
反应性气体分析仪Qulee RGM2-202是"Model:Qulee"中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。
特点
- 可以在反应过程中长时间进行稳定的测量
- 采用具有磁场的Claude离子源
软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少 - 紧凑型流量控制阀
处理室到离子源的距离很短，可以快速响应分辨率 - 可以测量宽范围的压力10-6 to 13kPa（口径可选）
- 无需电脑也可以测量
- One Click机能（对每个人来说都很容易，不需要复杂的操作）
- 连接传感器单元时，最大可以进行120℃的高温烘烤
- 离子源，二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性（专利申请中）
- 可进行氦气检漏，漏气测试
- 标准搭载软件（Windows 8/10/11）
用途
- CVD/ALD/蚀刻设备
- 监测工艺中的反应气体
- 蚀刻和清洁工艺的末端监测
- 残留气体测量
- 检漏
规格
| 型号 | RGM2-202 | RGM2-302 |
| 传感器 | ||
| 质量分离方式 | 四极型质量分析仪 | |
| 质量数范围 | 1～200 amu | 1～300 amu |
| 分解能 | M/△M=1M (10%P.H.) | |
| 检出器 | SEM/法拉第杯 | |
| 感度 | 1×10-3 A/Pa | |
| 最小检知分圧 | 1×10-10 Pa | |
| 离子源 | 带磁铁的闭合离子源 | |
| 灯丝 | V字型 Ir/Y2O3 1个 | |
| 电力电压 | 20～70 eV | |
| 放射电流 | 10μA | |
| 放大器范围 | 1×10-5～1×10-12 A | |
| 可烘烤温度 | 120℃ | |
| 差動排气系统 | ||
| 气体导入阀 | 带孔流量控制阀 | |
| 最大采样压力 | 13kPa | |
| 差动排气系统 | 带中间排气，吹扫的涡轮分子泵。 | |
| 涡轮分子泵 | 67L/s：N2 | |
| 前级泵 | DIS090 | |
| 皮拉尼真空计 | SW1-1 | |
| 电离真空计 | GI-M2 | |
| 质量 | 排气系：57kg／控制系：38kg | |
| 效用 | ||
| 电源电压 | AC100V 15A | |
| 压缩空气 | Dry N2：0.4～0.7MPa (Φ6一触式配件) | |
| 控制器单元 | ||
| One Click功能 | 有 / He / H2O / N2 / O2 / Any gas | |
| PC交互 | RS-232C / 485 | |
| 外部入输出 | 类似物输入2点（0-10V） | |
| 设定点输出2点（异常、警告） | ||
| 外部联锁（压力保护） | ||
| 其他 | ||
| 烘烤加热器 | 带式加热器 | |
| 高度调整架 | 标准 | |
| 传感器部一控制部链接电线 | 约5m | |
| 接口 | Ethernet | |
| 软件 | Qulee QCS Ver.4.2以降（Windows 8/10/11）适用 | |
| 选项 | PC | |
