爱发科集团生产，销售的真空相关的设备介绍。
关于气体分析仪（工艺气体监测仪）的介绍、购买、商讨
过程气体监测仪是用于各种制造过程中的设备，用于实时高精度地测量和监控过程气体的管理和浓度。它利用四极子型原理检测气体成分，提供准确的气体组成数据。通过这一点，在电子设备和半导体等对气体管理要求严格的领域，实现了质量提升和生产效率的提高。
气体分析仪（过程气体监测仪）主要用于半导体制造和电子设备制造过程中，用于实时监测气体的成分和浓度。其主要特点如下：气体分析仪（过程气体监测仪）主要用于半导体制造和电子设备制造过程中，用于实时监测气体的成分和浓度。其主要特点如下：
高精度地测量特定的气体成分，帮助过程控制。实时监测过程气体的状态，实现异常的早期检测和过程优化。一次测量即可同时测量多种气体成分。近来，铝美克（ALVAC）的气体分析仪（过程气体监测仪）不仅在上述过程中得到了应用，还在各类工业过程和研发中，支持高效和高精度的气体分析。
泵的种类
溅射工艺
过程气体监测仪 Qulee CGM2 系列是适用于溅射工艺的气体分析设备。非常适合用于泄漏监测、残留水分以及其他杂质的监测。实现了良品率的管理和生产效率的提高。
基础工艺
过程气体监测仪 Qulee BGM2 系列是适用于蒸镀设备和各类真空炉工艺的气体分析设备。非常适合用于泄漏监测、残留水分以及其他杂质的监测。实现了良品率的管理和生产效率的提高。
高性能工艺
过程气体监测仪 Qulee HGM2 系列是 ULVAC 的高端设备，可在高真空和超高真空条件下进行分析。实现了最小检测分压达 10⁻¹³ Pa 的能力，非常适合用于各种研究开发用途以及超高真空条件下的分析。
高压工艺
过程气体监测仪 Qulee with YTP-H 真空规格能够根据客户真空设备的压力范围（3000 Pa～10⁻² Pa）进行分析。适用于各类真空炉的泄漏监测、残留水分和杂质的监测。
高压工艺
Qulee with YTP-H 真空规格 (1, 10, 100, 500, 3000Pa)
带有差动排气系统的四极质谱仪 ( Qulee with YTP-H ) 是ULVAC结合 Qulee 的丰富实际成果和顾客的需求开发的，实现了功能的充实和使用的简易。
多种真空设备的工艺管理，残留气体分析到R&D都可广泛应用。
大气压环境工艺
过程气体监测仪 Qulee with YTP-H 大气压规格是能够在大气压环境下进行测量的气体分析设备。实现了脱碳相关分析、环境测量、催化反应分析以及废气分析的实时监测。
大气压环境工艺
Qulee with YTP-H 大气压规格
带有差动排气系统的四极质谱仪（ Qulee with YTP-H ）是ULVAC结合 Qulee 的丰富实际成果和顾客的需求开发的，实现了功能的充实和使用的简易。可以实时进行大气压下的各种环境测量。
CVD/ALD/刻蚀工艺
过程气体监测仪 Qulee RGM2 系列是适用于 CVD、刻蚀以及 ALD 工艺的气体分析设备。能够在反应性/腐蚀性气体环境下长时间稳定测量，适用于清洗工艺的端点监控，并在泄漏监测、残留水分以及其他杂质监测方面表现出色。非常适合用于良品率管理和生产效率的提高。
CVD/ALD/刻蚀工艺
RGM2-201F
反应过程气体监视器Qulee RGM2-201F是Qulee系列的对应蚀刻、CVD、ALD装置等反应性气体的带差动排气系统的过程监视器。由于ULVAC独特的离子源和排气系统结构，对反应性气体具有优异的耐腐蚀性，可以长时间稳定测量。
CVD/ALD/刻蚀工艺
RGM2-202
反应性气体分析仪Qulee RGM2-202是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。
CVD/ALD/刻蚀工艺
RGM2-302
反应性气体分析仪Qulee RGM-302是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。
ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。
气体分析仪专用软件
气体分析仪专用软件
Qulee QCS Ver.4.2
" Qulee QCS "软件对应ULVAC的气体分析仪／工艺气体监控器
本软件，对应几乎所有的ULVAC制的气体分析仪，简单的点击操作，谁都可以测量和保存数据。