椭偏仪广泛用于半导体和显示等各个领域。通过Si和玻璃基板上形成的透明或半透明薄膜（氧化膜，氮化膜，抗蚀，ITO等）的膜厚，光学常数（折射率，消光系数）的测量，可以对半导体光刻领域的抗蚀膜分布，显示领域有机EL面板的有机膜进行评估。
使用椭圆偏振法（偏光法），根据光的偏振态的变化来分析薄膜的膜厚和光学常数。
当某种偏振状态的光入射到样品表面上时，由于薄膜的存在，从薄膜表面和基板表面反射的光的组合光与入射光的相位和振幅会变化。
这种相位变化称为delta（Δ），振幅比称为psi（ψ）。
椭圆仪会测量这两个值以确定膜厚和折射率。
