EGO-40M|EGO 系列|光学膜用EB枪|EB枪・EB电源|产品中心|ULVAC SHOWCASE

光学膜用EB枪

EGO 系列

EGO-40M

アルバック

基于ULVAC多年的技术积累设计的高可靠性EB枪。

特点

  • 高性能偏转线圈提供出色的扫描性能和稳定,均匀的成膜工艺。

用途

  • 电子束蒸发的蒸发源

规格

型号 EGO-1G EGO-40M EGO-206M EGO-406M
电子束偏转角度 270°
坩埚数 0 4 6 6
坩埚容量 - 10cc ×2 / 40cc ×2 20cc 40cc
冷却水量 坩埚 - 10L/min 10L/min 10L/min
线圈 2L/min - - -
外形尺寸 W×D×H 168×285×174mm 170×309×174mm 200×339×176mm 200×339×176mm
重量 10kg 18kg 18kg 18kg
适用电源 HPS-1000N-G100/G200

該非判定結果報告書 Download

SDS Download

This website use cookies to obtain and use access data to understand the convenience and usage of customers. If you agree to use cookies, click "I Accept".
[Privacy Plicy] [Cookie Policy]

I Accept