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光学膜用EB枪
EGO 系列
EGO-40M
ULVAC
基于ULVAC多年的技术积累设计的高可靠性EB枪。
特点
- 高性能偏转线圈提供出色的扫描性能和稳定，均匀的成膜工艺。
用途
- 电子束蒸发的蒸发源
规格
| 型号 | EGO-1G | EGO-40M | EGO-206M | EGO-406M | |
| 电子束偏转角度 | 270° | ||||
| 坩埚数 | 0 | 4 | 6 | 6 | |
| 坩埚容量 | - | 10cc ×2 / 40cc ×2 | 20cc | 40cc | |
| 冷却水量 | 坩埚 | - | 10L/min | 10L/min | 10L/min |
| 线圈 | 2L/min | - | - | - | |
| 外形尺寸 W×D×H | 168×285×174mm | 170×309×174mm | 200×339×176mm | 200×339×176mm | |
| 重量 | 10kg | 18kg | 18kg | 18kg | |
| 适用电源 | HPS-1000N-G100/G200 | ||||
