CVD / ALD / Etchingプロセス Model: RGM2-201F
アルバック
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Model: RGM2-201Fの導入・購入・検討について
2023年度日本真空工業会「真空コンポーネント大賞」受賞
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-201Fは"Model:Qulee"のエッチング、CVD、ALD装置等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
特長
- 排気系と制御系が一体型となり縦置きも実現、フットプリントが世界最小になったことで限られたスペースの生産ラインでも反応ガスモニタが可能。
- メンテナンス時におけるフィラメントキットの交換スピードが劇的に改善し、2人の作業員による120分の作業が1人で10分で完了。
- デュアルフィラメントにより、1本目のフィラメントが断線しても生産ラインを停止せずにガス分析が可能。
- タッチパネルを採用し、リアルタイムで状況確認が可能。
- 起動から測定までの操作がパソコンのみで完結。
- 弊社独自の磁石付きClosed Ion Sourceの採用により、反応性プロセス中でも長時間安定した測定が可能。
- ガスの解離が少なく、感度が高いイオン化室により、ファラデーカップのみで高感度なガス分析が可能。
- 熱反応による分解や吸着を防ぐコンパクトな流路制御バルブ。
- プロセス室からイオン源までの距離を短くし、速いレスポンスでの分解が可能。
- 予防保全機能の充実
イオンソース、二次電子増倍管の予防保全
分析管のトレサビリティ機能の搭載（特許第5016031号） - 標準搭載のソフトウェアはWindows 8/10/11に対応。
用途
CVD・ALD・Etching装置における
- プロセス中の反応ガスのモニタ
- エッチングのクリーニングプロセスのエンドポイントモニタ
- 残留ガス測定
仕様
センサ
| 質量数範囲（amu） | 1～200 | |
| 分解能(M/ΔM) | M/ΔM＝1M（10％P.H.) | |
| 検出器 | ファラデーカップ(FC) | |
| 感度 (A/Pa) ＊1 | 1e-5A/Pa（オリフィス直結導入、Ie=50uA） N2ガス＝5e-4Paに対して、Ee50V時 |
|
| 最小検知分圧 (Pa) ＊1 | e-10Pa台 (EE50V、Ie500uA時） | |
| 全圧測定機能 *1 | あり | |
| 全圧測定範囲 *1 | 1e-3 ～ e-6 Pa 台 | |
| イオン源 | 磁石付きClosed Ion Source | |
| フィラメント | Ir/Y2O3 ２本（うち1本は予備） | |
| イオン化電圧 (EE;eV) | 20～70eV（Ie50uA時は50V設定を推奨） | |
| エミッション電流 (IE；uA) | 50uA/500uA（プロセス測定時は、EE50V、50uAを推奨） | |
*1 予備フィラメント（FIL2）は適用外となります。
差動排気システム
| 接続フランジ | VCR1/2"おすナット相当品 | |
| 仕様圧力 | 0.5~30Pa/10~500Paより選択 | |
| ターボ分子ポンプ | UTM70B(70L/s) | |
| フォアラインポンプ | なし フォアラインポート：KF16 動作保証フォアライン圧力：500Pa以下 フォアライン圧力確認用ピラニ真空計：SW100-A |
|
| 装置圧力監視用真空計 | キャパシタンスマノメータ “Model:CCMT” | |
ユーティリティ
| 電源電圧 | AC100~120V/6A,AC200~220V/3A より選択 | |
| 圧縮空気 | Dry N2：0.4MPa | |
その他
| 質量 | 20Kg | |
| 制御ユニット | タッチパネル | |
| ブロック型ヒーターユニット | 110℃±10℃ | |
オプション
| 分析管 | RGM-AN201F | RGM2-201F用 |
| イオンソース | RGM-IS01F | RGM2-201F用 |
| フィラメントキット | RGM-FL01F | RGM2-201F用 |
| オリフィス | RGM-OF030F | RGM2-201F用（使用圧力範囲：0.5~30Pa） |
| オリフィス | RGM-OF010F | RGM2-201F用（使用圧力範囲：10~500Pa） |
