アルバックグループの
ガス分析計（プロセスガスモニタ）
ガス分析計（プロセスガスモニタ）の導入・購入・検討について
プロセスガスモニタは、各種製造プロセスにおいてプロセスガスの管理や濃度をリアルタイムで高精度に測定・監視するための機器です。四極子型の原理を利用してガス成分を検出し、正確なガス組成データを提供します。これにより、電子デバイスや半導体など、厳密なガス管理が求められる分野での品質向上と生産効率の向上を実現します。
ポンプ種類
スパッタリングプロセス
プロセスガスモニタQulee CGM2シリーズは、スパッタリングプロセス向けのガス分析装置になります。リーク監視、残留水分、その他不純物の監視に最適です。歩留まり管理、生産効率の向上を実現します。
スパッタリングプロセス
CGM2-051 / 052
高圧下(1Pa以下)での高精度、高分解能を、革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVACの新型残留ガス分析計/プロセスガスモニタ(RGA)です。
各種生産ラインの設備技術の方々の声を形にしたプロセスモニタの新スタンダードの登場です。
スパッタリング装置のプロセス管理（品質向上、歩留まり向上）に最適です。
スパッタリングプロセス
CGM2-101 / 102
New Product
高圧下(1Pa以下)での高精度、高分解能を、革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVACの新型残留ガス分析計/プロセスガスモニタ(RGA)です。
各種生産ラインの設備技術の方々の声を形にしたプロセスモニタの新スタンダードの登場です。
スパッタリング装置のプロセス管理（品質向上、歩留まり向上）に最適です。
ベーシックプロセス
プロセスガスモニタQulee BGM2シリーズは、蒸着装置、各種真空炉プロセス向けのガス分析装置になります。リーク監視、残留水分、その他不純物の監視に最適です。歩留まり管理、生産効率の向上を実現します。
ハイパフォーマンスプロセス
プロセスガスモニタQulee HGM2シリーズは、高真空、超高真空下の分析も可能としたULVACのハイエンド機になります。最小検知分圧10-13Pa台を実現、各種研究開発用途から超～極高真空下での分析に最適です。
ハイパフォーマンスプロセス
HGM2-202
革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVAC の新型残留ガス分析計Qulee シリーズ（Ethernet 通信対応）のハイエンドモデル機"Qulee HGM2"です。
2.5 × 10 -6A/Pa（ファラデーカップ）という高感度を実現、各種研究開発用途から真空装置のプロセス管理まであらゆるニーズに対応いたします。
ハイパフォーマンスプロセス
HGM2-302
革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVAC の新型残留ガス分析計Qulee シリーズ（Ethernet 通信対応）のハイエンドモデル機"Qulee HGM2"です。 2.5 × 10 -6A/Pa（ファラデーカップ）という高感度を実現、各種研究開発用途から真空装置のプロセス管理まであらゆるニーズに対応いたします。
ハイプレッシャープロセス
プロセスガスモニタQulee with YTP-H真空仕様は、お客様の真空装置の圧力（3000Pa～10-2Pa）仕様に合わせた分析が可能になります。各種真空炉のリーク監視、残留水分、不純物監視が可能です。
ハイプレッシャープロセス
Qulee with YTP-H 真空仕様 (1, 10, 100, 500, 3000Pa)
差動排気系キット付四重極型質量分析計（ Qulee with YTP-H ）は、アルバックのQuleeにおける豊富な実績とお客様のニーズに合わせ、機能の充実と使いやすさを実現しました。
各種真空装置のプロセス管理や残留ガス分析からR & D まで幅広く活用いただけます。
大気圧環境プロセス
プロセスガスモニタQulee with YTP-H大気圧仕様は、大気圧雰囲気で測定が可能なガス分析計になります。脱炭素関連分析、環境測定、触媒反応分析、排ガス分析をリアルタイム測定を実現します。
大気圧環境プロセス
Qulee with YTP-H 大気圧仕様
差動排気系キット付四重極型質量分析計（ Qulee with YTP-H ）は、アルバックのQuleeにおける豊富な実績とお客様のニーズに合わせ、機能の充実と使いやすさを実現しました。
大気圧における各種環境測定がリアルタイムで可能です。
CVD / ALD / Etchingプロセス
プロセスガスモニタQulee RGM2シリーズは、CVDやエッチング、ALDプロセス向けのガス分析装置になります。反応性/腐食性ガス下でも長時間安定した測定を可能とし、クリーニングプロセスでのエンドポイントモニタリングはもとよりリーク監視、残留水分、その他不純物の監視に最適です。歩留まり管理に最適で、生産効率の向上を実現します。
CVD / ALD / Etchingプロセス
RGM2-201F
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-201FはQuleeシリーズのエッチング、CVD、ALD装置等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
CVD / ALD / Etchingプロセス
RGM2-202
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-202は、Quleeシリーズのエッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。
アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
CVD / ALD / Etchingプロセス
RGM2-302
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-302は、Quleeシリーズのエッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。
アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
ガス分析計用ソフトウェア
ガス分析計用ソフトウェア
Qulee QCS Ver.4.2
" Qulee QCS " は、アルバックの残留ガス分析計／プロセスガスモニタに対応したソフトウェアです。
当ソフトウェアは、ULVAC製のほとんどのガス分析計に対応しており、簡単なクリック操作で、誰でも測定・データ保存ができます。