CVD / ALD / Etchingプロセス RGM2-202
アルバック
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RGM2-202の導入・購入・検討について
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-202は、Quleeシリーズのエッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。
アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
特長
- 測定質量数範囲 1～200 amu
- 反応性プロセス中で長時間安定した測定が可能
- 通信インターフェース、Ethernet
- 磁場をもつクロードイオン源の採用
ソフトなイオン化でガスの解離が少なく、感度が高いイオン化室での熱反応による分解、吸着を防ぐ - コンパクトな流路制御バルブ
プロセス室からイオン源までの距離を短くし、速いレスポンスでの分解が可能 - 10-6 to 13kPa幅広い圧力での測定が可能（オリフィス選択による）
- PCレスでも測定可能
- One Click機能（だれにでも簡単、複雑な操作は不要）
- センサユニット接続時で最大120℃の高温ベーキングが可能
- イオンソース、二次電子倍増管の予防保全分析管のトレサビリティ機能の搭載（特許出願中）
- ヘリウムリークテスト、エアリークテスト、ビルドアップテストが可能
- ソフトウェアが標準搭載（Windows 8/10/11対応）
用途
CVD・ALD・Etching装置における
- プロセス中の反応ガスのモニタ
- エッチングやクリーニングプロセスのエンドポイントモニタ
- 残留ガス測定
- リークテスト
仕様
| 型式 | RGM2-202 | RGM2-302 |
| センサ | ||
| 質量分離方式 | 四重極型質量分析計 | |
| 質量数範囲 | 1～200 amu | 1～300 amu |
| 分解能 | M/△M=1M (10%P.H.) | |
| 検出器 | SEM/ファラデーカップ | |
| 感度 | 1×10-3 A/Pa | |
| 最小検知分圧 | 1×10-10 Pa | |
| イオン源 | 磁石付クローズドイオン源 | |
| フィラメント | V字型 Ir/Y2O3 1本 | |
| イオン化電圧 | 20～70 eV | |
| エミッション電流 | 10μA | |
| アンプレンジ | 1×10-5～1×10-12 A | |
| ベーキング可能温度 | 120℃ | |
| 差動排気システム | ||
| ガス導入バルブ | オリフィス付き流路制御バルブ | |
| 最大サンプリング圧力 | 13kPa | |
| 差動排気系 | 中間排気、パージ付TMP | |
| ターボ分子ポンプ | 67L/s：N2 | |
| フォアポンプ | DIS090 | |
| ピラニ真空計 | SW1-1 | |
| 電離真空計 | GI-M2 | |
| 質量 | 排気系：57kg／制御系：38kg | |
| ユーティリティ | ||
| 電源電圧 | AC100V 15A | |
| 圧縮空気 | Dry N2：0.4～0.7MPa (Φ6ワンタッチ継手) | |
| コントロールユニット | ||
| One Click機能 | あり He / H2O / N2 / O2 / Any gas | |
| 外部入出力 | アナログ入力2点（0-10V） | |
| セットポイント出力2点（異常、警告） | ||
| 外部インターロック（圧力保護） | ||
| その他 | ||
| ベーキングヒーター | テープヒーター | |
| 高さ調整スタンド | 標準 | |
| センサ部一制御部間接続ケーブル | 約5m | |
| インターフェース | Ethernet | |
| ソフトウェア | Qulee QCS Ver4.2以降（Windows 8/10/11対応） | |
| オプション | PC | |
