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金属膜用EB枪

EGK 系列

EGKー3

ULVAC

EGK-3型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果,为提高性能和可靠性而开发。
拥有最大输入功率5kW的坩埚。
坩埚容量是3cc、适合实验及小規模生産用。

特点

  • 采用容量3cc的坩埚,适合小规模生产。
  • 由于电子束被电磁场偏转,二次电子对成膜体的影响非常小。
  • 即使是升华材料,扫描X轴和Y轴上的束斑也可以消除点蚀现象并可以顺利蒸发。(日本专利831485号.843447号)
  • 电子束225°偏转,灯丝不会从蒸发材料暴露,因此寿命很长。
  • 发射器组件易于拆开,更换灯丝,绝缘体等非常容易。

规格

加速电压 -4kV~-10kV DC
束电流 0.5A max (at -10kV)
最大输入功率 5kW(-10kV、0.5A)
X轴偏转线圈 0.4~3.5A -18VDCmax
22Ω(20℃)
灯丝 0~6V AC 40Amax
坩埚 容量 2.6cc
尺寸 21Φ×15.6Φ×10H
电子束偏向角度 225°
有效蒸发角度 90°以上
蒸发速度 铝5kW时 0.5μm/min以上
(炉膛上方250H)
冷却水量 坩埚 8L/min以上 0.7MPa(最大圧力)
线圈 1L/min以上 0.7MPa(最大圧力)
水温 15~25℃
外形尺寸 110W×126H×207D
重量 约4kg
适用电源 HPS-510S、HPS-1000N、HPS-1600F
备注 建议使用电阻率为5kΩ·cm或更高的水。
Y轴偏转线圈 0~±1.2A ±12VDVmax
(可选) 1.8Ω(20℃)

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