金属膜用EB枪
EGK 系列
EGKー3
ULVAC
EGK-3型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果,为提高性能和可靠性而开发。
拥有最大输入功率5kW的坩埚。
坩埚容量是3cc、适合实验及小規模生産用。
拥有最大输入功率5kW的坩埚。
坩埚容量是3cc、适合实验及小規模生産用。
特点
- 采用容量3cc的坩埚,适合小规模生产。
- 由于电子束被电磁场偏转,二次电子对成膜体的影响非常小。
- 即使是升华材料,扫描X轴和Y轴上的束斑也可以消除点蚀现象并可以顺利蒸发。(日本专利831485号.843447号)
- 电子束225°偏转,灯丝不会从蒸发材料暴露,因此寿命很长。
- 发射器组件易于拆开,更换灯丝,绝缘体等非常容易。
规格
加速电压 | -4kV~-10kV DC | |
束电流 | 0.5A max (at -10kV) | |
最大输入功率 | 5kW(-10kV、0.5A) | |
X轴偏转线圈 | 0.4~3.5A -18VDCmax 22Ω(20℃) |
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灯丝 | 0~6V AC 40Amax | |
坩埚 | 容量 | 2.6cc |
尺寸 | 21Φ×15.6Φ×10H | |
电子束偏向角度 | 225° | |
有效蒸发角度 | 90°以上 | |
蒸发速度 | 铝5kW时 0.5μm/min以上 (炉膛上方250H) |
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冷却水量 | 坩埚 | 8L/min以上 0.7MPa(最大圧力) |
线圈 | 1L/min以上 0.7MPa(最大圧力) | |
水温 | 15~25℃ | |
外形尺寸 | 110W×126H×207D | |
重量 | 约4kg | |
适用电源 | HPS-510S、HPS-1000N、HPS-1600F | |
备注 | 建议使用电阻率为5kΩ·cm或更高的水。 | |
Y轴偏转线圈 | 0~±1.2A ±12VDVmax | |
(可选) | 1.8Ω(20℃) |