ガス分析計の用途と目的
ガス分析計は、真空の質を確認し、気体の成分毎の情報を知ることができます。様々なプロセスにおいてガス分析計は用いられ問題点を解決するために使用されています。
| プロセス | 問題点 | チェックポイント |
|---|---|---|
| 半導体製造装置プロセスモニタ | 結晶性の低下 | 残留水分（H20）やリークの確認 |
| 液晶・有機ELパネル製造装置プロセスモニタ | 液晶面の歩留まり問題 | 残留水分（H20）の確認 |
| 光学用蒸着装置プロセスモニタ | 光学薄膜面の歩留まり問題 | 残留水分（H20）の確認 |
| 真空熱処理装置雰囲気モニタ | 光輝性の低下、色ムラの出現 | 残留酸素（O2）やハイドロカーボン（CXHY）、リークの確認 |
| 凍結乾燥装置プロセスモニタ | 乾燥時間の長大化、性能・効能・味・見た目の変化 | 乾燥確認、不純物流入確認 |
ガス分析計の使用例
成膜装置おけるプロセスガスモニタの使用例
