高速分光エリプソメータの基礎知識

エリプソメータは、半導体やディスプレイ分野をはじめ、様々な分野で幅広く使用されています。Siやガラス基板上などに成膜された透明または半透明薄膜(酸化膜、窒化膜、レジスト、ITO など) の膜厚、光学定数(屈折率、消衰係数)の測定により、半導体ではリソグラフィ分野でのレジスト膜分布、デイスプレイでは有機ELパネルの有機膜評価などが挙げられます。

エリプソメトリ(偏光解析法)を利用し、光の偏光状態の変化から薄膜の膜厚や光学定数を解析します。ある一定の偏光状態となった光をサンプル表面に入射すると、膜の表面と基板の表面から反射した光の合成光は、薄膜が有ることにより入射した光と位相や振幅が変化します。この位相の変化をデルタ(Δ)、振幅比をプサイ(ψ)と呼び、エリプソメータはこの2つを測定し膜厚や屈折率を求めます。

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高速分光エリプソメータの基礎知識

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