エリプソメータは、半導体やディスプレイ分野をはじめ、様々な分野で幅広く使用されています。Siやガラス基板上などに成膜された透明または半透明薄膜（酸化膜、窒化膜、レジスト、ITO など） の膜厚、光学定数（屈折率、消衰係数）の測定により、半導体ではリソグラフィ分野でのレジスト膜分布、デイスプレイでは有機ＥＬパネルの有機膜評価などが挙げられます。
エリプソメトリ（偏光解析法）を利用し、光の偏光状態の変化から薄膜の膜厚や光学定数を解析します。ある一定の偏光状態となった光をサンプル表面に入射すると、膜の表面と基板の表面から反射した光の合成光は、薄膜が有ることにより入射した光と位相や振幅が変化します。この位相の変化をデルタ（Δ）、振幅比をプサイ（ψ）と呼び、エリプソメータはこの２つを測定し膜厚や屈折率を求めます。
