爱发科集团生产，销售的真空相关的设备介绍。
关于用于等离子体生成的电源的介绍、购买、商讨
等离子体发生电源或成膜电源是一种通过在电极之间施加电压来产生等离子体的装置。利用这项技术，可以实现PVD（如溅射）、CVD、刻蚀和灰化等真空工艺。这些工艺可在基板等被镀物上形成或去除薄膜，从而创造新的附加价值。该技术已广泛应用于我们日常生活中的各种产品。
通过形成各种薄膜可以创造附加价值，这些薄膜被应用于我们日常生活中常见的产品。相关行业非常广泛，涵盖半导体、电子设备、显示器、可再生能源、存储设备和汽车等多个领域。在成膜过程中，选择合适的薄膜材料和工艺至关重要。此外，考虑到生产效率和质量，选择适当的电源也是一个重要因素。
成膜工艺包括PVD（如溅射）、CVD、刻蚀和灰化等，每种工艺都需要配备合适的电源。根据所采用的工艺和薄膜类型，所需的最佳电源可能有所不同。因此，充分了解每种电源的特点，并根据目标选择最合适的电源显得尤为重要。
例如，在需要高精度薄膜或应对大规模生产时，必须使用满足特定要求的电源。此外，组合使用多种电源也是常见做法，这通常结合了各公司的独特技术经验。这里介绍的工艺与电源的对比表仅作为一般参考资料，并未涵盖所有工艺和应用。根据具体用途，慎重选择最适合的电源至关重要。
泵的种类
脉冲和直流电源系统
爱发科（ULVAC）的脉冲及直流电源系统提供了多样化的产品线，以支持各种溅射工艺：
直流电源（DC电源）：DC系列 / Digital DC系列
直流脉冲电源：DC PULSE系列
低频电源（LF电源）：SG
外置单元：A2K系列 / MFU
这些产品具备改善溅射工艺问题的功能，广泛应用于从研发到生产线的各种领域和用途。
直流电源 _DC系列
DC系列
DC 系列是用于溅射的直流电源 （DC Power Supply）。 它由可靠的元件和电路组成。 它是一种高度可靠的电源，通过在设计中体现我们多年积累的专业知识，包括电源的应用，非常适合等离子负载。
直流电源 _Digital DC系列
Digital DC 系列
Digital DC 系列是用于溅射的直流电源。它由可靠的元件和电路组成。 它是一种高度可靠的电源，通过在设计中体现我们多年积累的专业知识，包括电源的应用，非常适合等离子负载。
直流脉冲电源_DC PULSE系列
DC PULSE 系列
DC PULSE 系列是一种脉冲电源，可有效抑制无功过程中发生的异常放电。
该电源在设定的周期内反转输出电压，并抵消目标表面的电荷积累（充电），从而抑制异常放电并提高良率和吞吐量。
LF电源_SG
SG-10
它专为等离子体生成而设计，例如 LF 电源、双阴极溅射、等离子体CVD等，并且可以连续输出20kHz至100kHz频率的额定功率，用于等离子体负载。它是一种高度可靠的电源，通过在设计中体现我们多年积累的专业知识，包括电源的应用，非常适合等离子负载。
双极单元 _MFU
MFU-20K
MFU 可用作直流电源的外部单元，是一种用于双阴极溅射的 MF 电源。 它不仅对金属膜有效，而且对反应沉积也有效。 实现了稳定的溅射，而不会损失阳极。
高频电源系统
爱发科（ULVAC）提供以下高频电源产品：
内置匹配器的高频电源：RMG
高通用性高频电源系统（RF电源系统）：N系列
丰富的高频电源选项：MEX-N系列 / EXN系列 / PHS-N系列 / EXO
此外，我们始终将可靠性作为搭载电源的真空设备中最关键的要素。从开发和设计阶段到评估和制造，我们始终专注于确保高可靠性。
内置匹配器_高频电源_RMG
RMG-1303
RMG-1303 是一款 13.56MHz、300W 射频电源，内置输出匹配器，适用于射频溅射和等离子 CVD 蚀刻等等离子体工艺。 匹配器和射频电源的集成使其更小、更轻。 它可以从低输出进行控制，并且可以用于广泛的领域，从研发应用到批量生产设备。
高频电源_N系列
RFS-N 系列
RFS-N 系列是 13.56MHz、0.5kW/1/kW/3kW/5kW 输出射频电源，用于等离子体处理。 配备高效射频放大器，体积小、重量轻。
此外，射频电源具有内置的自动匹配控制器功能，因此可以只用主机来控制射频电源和匹配系统的功率。
高频电源_选配
EXO-13
该装置设计为高频电源的外部振荡器源。它能够输出13.56MHz的单个频率的额定信号。
此外,本机配备 1~4 个 BNC 输出端口,最多可为 4 个电源进行同相高频振荡。
*所连接电源的外部输入端子必须端接至50Ω,并且必须能够在10mW至100mW的距离内工作。