ガス分析計のアプリケーション｜Technology｜ソリューション｜ULVAC SHOWCASE

Technology

ガス分析計のアプリケーション

（1）アプリケーションデータ　蒸着装置残留Gas Date

gas01.JPG

大気圧成分 N2：78％ O2：21％ Ar：0.9％

・通常の高真空状態はH2O，H2が多い

・Leakの有無はN2(28)・O2(32)のIon強度とその比から判断することが出来る。

・油成分の汚染はM/e=39,41,43,55,57（CｘHｙ）で判断できる

（2）アプリケーションデータ　PVD Process Gas Data（Semi）

gas02.JPG

（3）アプリケーションデータ　PVD Process Gas Data （FPD）

Ar Gas導入時（2）（Ar 400 sccm導入時に、O2を2 → 4 → 6 → 8 → 10sccm）

gas03.JPG

（4）アプリケーションデータ　 PVD Process Gas Data （semi）

gas04.JPG

（5）計測例　 真空乾燥炉・Process Data

gas05.JPG

もっとみる

Technology

ソリューション

このサイトでは、お客様の利便性や利用状況の把握などのためにCookieを使用してアクセスデータを取得・利用しています。Cookieの使用に同意する場合は、
「同意しました」をクリックしてください。「個人情報保護方針」「Cookie Policy」をご確認ください。

同意しました